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IKN分散機采用德國博格曼雙端面機械密封，在冷卻水的前提下，可24小時連續(xù)運行。而普通乳化機很難做到連續(xù)長時間的運行，并且普通乳化機不能承受高轉(zhuǎn)速的運行

由于碳納米管之間較大的范德華引力、大的比表面積、非常高的長徑比，一般情況下,碳納米管以糾纏團聚體狀態(tài)存在。要發(fā)揮碳納米管性能使其廣泛應(yīng)用,如何均勻分散碳納米管是需要解決的關(guān)鍵性問題。

目前,分散碳納米管的方法有研磨與攪拌、高能球磨、超聲波處理、強酸強堿洗滌、添加表面活性劑、原位生長合成、多種方法綜合處理等 。本文綜述了碳納米管的各種分散方法,分析了碳納米管的分散機理,提出了均勻分散碳納米管要滿足的必要條件:打散碳納米管團聚體、剪斷長碳納米管、保持碳納米管分散狀態(tài)。

先將一定量的碳納米管加到一定粘度的聚合物熔體中,然后在具有線接觸研磨特征的研磨裝置中使碳納米管均勻分散到聚合物中,在機械摩擦力和聚合物熔體內(nèi)的層間剪切力等作用下將碳納米管截斷,去掉所用聚合物即可得到長度為50nm~5nm的短碳納米管,可任意調(diào)節(jié)聚合物與碳納米管的比例,極端情況下可以完全不使用聚合物。

由于研磨過程作用力較小,可以分散碳納米管團聚體于介質(zhì)中,對于團聚體本身很難起作用。普遍認為研磨過程不能很好地解決碳納米管的團聚問題，依肯公司在CMD2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出CMSD2000高速研磨分散機。其剪切速率可以超過100.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度,無需其他輔助分散設(shè)備。從而解決了碳納米管的團聚問題。

IKN高速分散機采用變頻調(diào)速，各種規(guī)格、運轉(zhuǎn)穩(wěn)定有力，適合各種粘度；液壓、機械兩種升降形式，升降旋轉(zhuǎn)自如，適應(yīng)各種位置；普通及防爆配置，安全可靠，操作維護簡單；生產(chǎn)連續(xù)性強，對物料可進行分散和溶解，分散效果好，生產(chǎn)，運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，安裝簡便。針對不同物料的粘度及處理量有不同的功率及型號。

IKN分散機采取直立式設(shè)計，使物料可以全部進入分散腔，符合工藝要求和流體力學(xué)要求，增加其工作效率，***低處出口的出料設(shè)計符合生產(chǎn)要求，垂直的壓力使得該機器工作更加穩(wěn)定，同時便于清潔。與物料接觸的材料根據(jù)生產(chǎn)要求使用SS316鋼或更加耐酸堿的哈氏合金，增強其耐磨損和耐腐蝕的特性，杜絕設(shè)備與物料產(chǎn)生物理和化學(xué)變化而形成污染。采用了三層結(jié)構(gòu)卡匣式的機械密封設(shè)計，可以安裝，可靠性能高，適合制藥工業(yè)。根據(jù)制藥規(guī)范要求，對分散腔和出料口進行表面處理，的表面處理質(zhì)量和無死角設(shè)計便于清洗，符合CIP及SIP的清潔標準。

從設(shè)備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點：

1.分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.分散頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)

g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。

IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個重要因素，速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的

分散是至少兩種不相容液體構(gòu)成熱力學(xué)不穩(wěn)定體系，一種液體以球形單位分散在另一種液體中，所以分散越穩(wěn)定分散效果越好。

IKN分散機的優(yōu)勢：

1、 處理量大，適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)；

2、 粒徑分布范圍窄，勻度高；

3、 省時、、節(jié)約能源；

4、 精密鑄造的整體式機架和經(jīng)精密動平衡測試的道轉(zhuǎn)子，確保整機運行噪音低、運轉(zhuǎn)平穩(wěn)；

5、 消除批次間生產(chǎn)品質(zhì)的差異；

6、 無死角，物料通過粉碎分散剪切；

7、 具有短距離，低揚程輸送功能；

8、 使用簡單，維修方便；

9、 可實現(xiàn)自動化設(shè)置；

10、 集裝式機械密封，物料無泄漏；

11、 單機處理量從1~120m3/h。

CMSD2000系列研磨分散機參數(shù)選型表 

研磨分散機 流量 輸出 線速度 功率 入口/出口連接

類型 l/h rpm m/s kW

CMSD2000/4 300 14,000 41 4 DN25/DN15

CMSD2000/5 1000 10,500 41 11 DN40/DN32

CMSD2000/10 4000 7,200 41 30 DN80/DN65

CMSD2000/20 10000 4,900 41 45 DN80/DN65

CMSD2000/30 20000 2,850 41 90 DN150/DN125

CMSD2000/50 60000 1,100 41 160 DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

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