小兒腹瀉蒙脫石混懸液研磨均質(zhì)機(jī)，研磨型醫(yī)藥混懸液均質(zhì)機(jī)，小型醫(yī)藥均質(zhì)機(jī)，立式高剪切均質(zhì)機(jī)，多功能納米均質(zhì)機(jī)，止瀉藥均質(zhì)機(jī)，復(fù)方混懸劑均質(zhì)機(jī)，在線式蒙脫石混懸液均質(zhì)機(jī)，小兒腹瀉蒙脫石混懸液均質(zhì)機(jī)

蒙脫石是由顆粒極細(xì)的含水鋁硅酸鹽，較早的資料就有資料記載其具有藥用效果，如在《本草綱目拾遺》中介紹膨潤(rùn)土可用于治療外傷和解毒，并將其歸納為中藥的一種。蒙脫石混懸液由主藥蒙脫石、助懸劑、矯味劑等組成，用于治療腹瀉及消化道潰瘍等效果顯著。其具有服用劑量準(zhǔn)確、服用攜帶方便、粒度較細(xì)、服用后可快速均質(zhì)到人體消化道、效果更好等多種優(yōu)點(diǎn)。鑒于此，我們擬將蒙脫石制備成混懸劑以克服上述蒙脫石散劑的缺點(diǎn)?；鞈乙旱闹苽湓瓌t首先是使粉粒潤(rùn)濕并在液體均質(zhì)介質(zhì)中均勻均質(zhì)，保持一定條件使其盡量不聚集，然后采取一定的措施防止結(jié)塊。
 制備方法通常混懸液的有兩種：均質(zhì)法和凝聚法。由于蒙脫石本身的性質(zhì)我們采用的是均質(zhì)法，混懸液中微粒的大小不僅關(guān)系到混懸液的質(zhì)量和穩(wěn)定性，也會(huì)影響混懸液的藥效和生物利用度。所以測(cè)定混懸液中微粒大小及其分布，是評(píng)定混懸液質(zhì)量的重要指。由于本研究的蒙脫石采用的是法國(guó)益普生公司研制的商品名為思密達(dá)的蒙脫石散劑，故其微粒大小符合要求，無需測(cè)其微粒大小。

當(dāng)蒙脫石混懸液的工藝配方確定時(shí)，為了降低沉降系數(shù)，我們可以通過減小粒子的半徑來縮小沉降系數(shù)。蒙脫石混懸液粒徑的細(xì)化，取決于均質(zhì)設(shè)備的選擇。如果采用IKN研磨均質(zhì)機(jī)的話，不僅可以對(duì)蒙脫石混懸液粒徑進(jìn)行細(xì)化，還可以將混懸液均質(zhì)的更均勻。這取決于上海依肯研磨均質(zhì)機(jī)的特殊設(shè)計(jì)，IKN研磨均質(zhì)機(jī)將膠體磨和均質(zhì)機(jī)合二為一，先研磨細(xì)化粒徑，再對(duì)物料進(jìn)行均質(zhì)，使蒙脫石混懸液更加細(xì)膩、均勻、穩(wěn)定。

CMD2000模塊化設(shè)計(jì)主要由兩層分散頭構(gòu)成，工作時(shí)，物料通過投料口進(jìn)入分散腔，首先到達(dá)層分散頭進(jìn)行處理，由于馬達(dá)帶動(dòng)轉(zhuǎn)子齒列高速運(yùn)轉(zhuǎn)，產(chǎn)生渦流和離心力效應(yīng)使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強(qiáng)力剪切間隙中物料被強(qiáng)烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時(shí)完成第二次剪切，接著流出的物料進(jìn)入第二層分散頭腔體，對(duì)處理過的物料再次進(jìn)行剪切（原理同上），從而確?；旌戏稚@得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩(wěn)定性更好，滿足生產(chǎn)時(shí)對(duì)于粒徑的要求。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。蒙脫石混懸液均質(zhì)機(jī)

第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗、中等、細(xì)和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計(jì)算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

 流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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