硬脂酸鎂實(shí)驗(yàn)室納米在線研磨分散機(jī)
硬脂酸鎂,化學(xué)式為C36H70MgO4,分子量為591.24,是一種有機(jī)化合物,為白色無砂性的細(xì)粉,與皮膚接觸有滑膩感。在水、乙醇或乙醚中不溶,主要用作潤(rùn)滑劑、抗粘劑、助流劑。特別適宜油類、浸膏類藥物的制粒,制成的顆粒具有很好的流動(dòng)性和可壓性。在直接壓片中用作助流劑。還可作為助濾劑、澄清劑和滴泡劑,以及液體制劑的助懸劑、增稠劑。
應(yīng)用領(lǐng)域
1.該品用作聚氯乙烯熱穩(wěn)定劑,以及化妝品年面粉、潤(rùn)膚油膏和醫(yī)藥片劑原料(賦形藥、潤(rùn)滑藥);用于校木粉中使之潤(rùn)滑光亮透明;油漆工業(yè)作透明平光劑等。
2.廣泛用于食品、醫(yī)藥、涂料、塑料、橡膠、紡織等。
3.是新型藥用輔料,可作固體制劑的成膜包衣材料、膠體液體制劑的增稠劑、混懸劑等。
4.化妝品中用于粉類產(chǎn)品,可增進(jìn)黏附性,潤(rùn)滑性,還可作為醫(yī)藥片劑原料。
CMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力,對(duì)高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10
研磨分散機(jī)的特點(diǎn):
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
IKN研磨分散機(jī)設(shè)備參數(shù):
設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
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