- 企業(yè)類(lèi)型:制造商
- 新舊程度:全新
- 原產(chǎn)地:德國(guó)
- 電壓:380
- 功率:4kw
- 適用物料:粉體漿料
- 進(jìn)料粒度:<100 mm
- 出料粒度:10 um
- 設(shè)備尺寸:450*350*750 mm
- 轉(zhuǎn)速:0-14000
IKN高性能膜面剝離劑高速納米分散機(jī)
**涂膜剝離劑(NEOREVER)系高性能膜面剝離劑,一般稱(chēng)為去漆劑。能在不損及涂裝物本體表面的情況下去除涂膜,縮短作業(yè)時(shí)間,提高涂裝的工作效率。
主要用途
1. 檢查金屬表面腐蝕狀況時(shí),除去涂膜用。
2. 車(chē)輛、飛機(jī)、各種機(jī)具、家具等整修時(shí),除去涂膜用。
3. 建筑物重新油漆時(shí),除去舊漆用。
4. 涂裝不良品,須重新涂裝時(shí),去除不良涂膜用。
5. 使用于去除其他特殊涂膜用。
可以剝離的涂料如下:一般烤漆、壓克力烤漆(噴漆)、環(huán)氧樹(shù)脂涂料、聚氨酯樹(shù)脂涂料、電著涂料、一般油性涂料、噴磁漆、調(diào)合漆、噴漆
上海IKN技術(shù),獨(dú)特創(chuàng)意,融化理念。將IKN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來(lái)CM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了**分散盤(pán)(均質(zhì)盤(pán)、乳化盤(pán))。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱(chēng)為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。
CMD2000系列是IKN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。
CMD2000研磨機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),**的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。
CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
**級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第*級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力,對(duì)高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
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