CMD2000/4系列金屬除銹劑高轉(zhuǎn)速研磨分散機(jī)

金屬除銹劑，是一種有機(jī)酸，主要是由**表面活性劑、有機(jī)酸、促進(jìn)劑、緩蝕劑和去離子水組成，不含無機(jī)酸及其它有毒無機(jī)鹽，產(chǎn)品性能穩(wěn)定。它比以往無機(jī)酸(HCL、H 2 SO 4 、HNO 3 )***、更有效，短時(shí)間內(nèi)可以除銹。

金屬除銹劑可除去銹、污染物質(zhì)(積碳)、氧化物。經(jīng)其處理過的金屬表面對焊接、電鍍、噴漆不會產(chǎn)生影響。除銹後保持金

屬原有的色澤，對人體無腐蝕性。

產(chǎn)品說明

1、適用范圍廣，可恢復(fù)金屬原色。

2、銹、污染物質(zhì)(積碳)、氧化物可在短時(shí)間內(nèi)除去。

3、對母材無損傷，可洗凈**部件表面。

4、產(chǎn)品**環(huán)保?？擅黠@降低廢氣產(chǎn)生。防止環(huán)境污染。 (接觸到手、皮膚、衣服上，無 異常反應(yīng))

5、常溫下可發(fā)揮**效果，與市面上其他除銹產(chǎn)品相比，除銹效果更加顯著。

6、可采用浸漬、涂刷、噴霧等方法，使用簡便。

7、對塑膠、橡膠制品、油漆等材料不會產(chǎn)生影響。

8、非易燃物、易爆物，無異味。

9、不含重金屬成分。

上海IKN技術(shù)，獨(dú)特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了**分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。

CMD2000系列是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。

CMD2000研磨機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，**的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第*級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

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