NA MASTER(那諾-馬斯特)提供的全自動RIE系統(tǒng)用于刻蝕氧化物、氮化物和金屬，可以根據(jù)需要配置ICP實(shí)現(xiàn)快速深刻，DRIE系統(tǒng)可用于深硅刻蝕。主要型號包含NRE-3000，NRE-3500，NRE-4000，NDR-4000。
RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)
NA-MASTER(那諾-馬斯特) NRE-4000是一款式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2"的視窗,另一個空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持到12”的晶圓片。腔體為凈設(shè)計(jì)，并且根據(jù)配套的真空泵可以10-6 Torr 或更小的限真空。該系統(tǒng)系統(tǒng)可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個節(jié)流閥,一個250l/s的渦輪分子泵,濾網(wǎng)過濾器,以及一個10cfm的機(jī)械泵(帶Formblin泵油).RF射頻功率通過600W,13.56MHz的電源和自動調(diào)諧器提供。系統(tǒng)將持續(xù)監(jiān)控直流自偏壓,該自偏壓可以-500V.這對于各向異性的刻蝕。
該系統(tǒng)是基于PC控制的全自動系統(tǒng).系統(tǒng)真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實(shí)時顯示,流量及功率則以數(shù)字形式實(shí)時顯示.系統(tǒng)提供保護(hù)的四級訪問功能:操作員級、工程師級、工藝人員級,以及維護(hù)人員級.允許半自動模式(工程師模式)、寫程序模式(工藝模式), 和全自動執(zhí)行程序模式(操作模式)運(yùn)行系統(tǒng)?；谌詣拥目刂?，該系統(tǒng)具有高度的可重復(fù)性。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
鋁質(zhì)腔體或不銹鋼腔體
不銹鋼立柜
能夠刻蝕硅的化合物(~400? /min)以及金屬
典型的硅刻蝕速率，400 ?/min
12”的陽氧化鋁RF樣品臺
水冷及加熱的RF樣品臺
大的自偏壓
淋浴頭氣流分布
限真空5x10-7Torr，20分鐘內(nèi)可以10-6Torr級別
渦輪分子泵
NRE-3000多支持4個MFC，NRE-4000多支持8個MFC
無繞曲氣體管路
自動下游壓力控制
雙刻蝕能力：RIE以及PE刻蝕(可選)
終點(diǎn)監(jiān)測
氣動升降頂蓋
手動或自動上片
預(yù)真空鎖
基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動控制
菜單驅(qū)動，4級訪問保護(hù)
的聯(lián)鎖
可選ICP離子源以及低溫冷卻樣品臺，用于深硅刻蝕
更多產(chǎn)品型號：
NRE-4000：基于PC計(jì)算機(jī)全自動控制的式系統(tǒng)，占地面積26“D x 44”W
NRE-3500：基于PC計(jì)算機(jī)全自動控制的緊湊型式系統(tǒng)，占地面積26“D x 26”W
NRE-3000：基于PC計(jì)算機(jī)全自動控制的臺式系統(tǒng)，占地面積26“D x 26”W
NRP-4000：RIE/PECVD雙系統(tǒng)
NDR-4000：深RIE刻蝕(深硅刻蝕)系統(tǒng)
ICP離子源(用于深RIE刻蝕)
