NA MASTER(那諾-馬斯特)的兆聲處理設(shè)備，主要包含SWC單晶圓/掩模版清洗系列和LSC大基片清洗系列，支持濕法清洗/去膠/刻蝕應(yīng)用。型號包含SWC-3000，SWC-4000，SWC-5000，LSC-4000，LSC-5000。
清洗及工藝技術(shù)
NA-MASTER(那諾-馬斯特)兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。
為了實現(xiàn)基片情況下的程度的清洗優(yōu)化，兆聲能量強(qiáng)度須稍稍低于樣片上的任何點的受損閾值。NA-MASTER(那諾-馬斯特)的技術(shù)可以兆聲能量均勻分布于整個基片表面，可以做到分布能量化的同時又稍低于樣片受損閾值，從而實現(xiàn)理想的清洗效果。
根據(jù)不同的應(yīng)用，某些選配件將會進(jìn)一步設(shè)備的能力，更好的去除不想要的顆粒和殘留物的效果。
NA-MASTER(那諾-馬斯特)兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。
為了實現(xiàn)基片情況下的程度的清洗優(yōu)化，兆聲能量強(qiáng)度須稍稍低于樣片上的任何點的受損閾值。NA-MASTER(那諾-馬斯特)的技術(shù)可以兆聲能量均勻分布于整個基片表面，可以做到分布能量化的同時又稍低于樣片受損閾值，從而實現(xiàn)理想的清洗效果。
根據(jù)不同的應(yīng)用，某些選配件將會進(jìn)一步設(shè)備的能力，更好的去處不想要的顆粒和殘留物的效果。
單晶圓/掩模版清洗機(jī)型號 SWC-4000 和 SWC-3000
應(yīng)用：
有圖案和無圖案掩模版及晶圓片
Ge, GaAs和InP晶圓片清洗
CMP化學(xué)機(jī)械拋光后晶圓片清洗
晶圓片框架上的切片小芯片清洗
等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
帶保護(hù)膜的分劃板清洗
掩模版空白處或接觸掩模版清洗
X射線及紫外掩模版清洗
光學(xué)鏡頭清洗
帶ITO涂層的顯示面板清洗
兆聲輔助的玻璃工藝
SWC-4000產(chǎn)品主要特點：
12”外徑或7”x7”基片
的系統(tǒng)單元
兆聲，化學(xué)試劑，刷子清洗和旋轉(zhuǎn)甩干
微處理器控制
化學(xué)試劑分發(fā)單元
溶劑和酸分開排放
熱氮
30”深 x 26”寬的占地面積
SWC-4000選配項：
掩模版或晶圓片托盤
臭氧清洗
刷子清洗
高壓去離子水清洗
氮離子發(fā)生器
SWC-3000產(chǎn)品主要特點：
臺式單元
兆聲掩模版或晶圓片清洗
12”圓片，9”方片
微處理器控制
IR紅外燈
SWC-3000選配項：
掩模版或晶圓片托盤
刷子清洗
化學(xué)試劑清洗(CDU)
氮離子發(fā)生器
大基片清洗機(jī)型號LSC-4000
LSC-4000應(yīng)用：
硅片
藍(lán)寶石片
晶圓框架上的芯片
顯示面板
ITO涂敷的顯示屏
有圖案及無圖案掩模版
掩模版空白處
帶保護(hù)膜的分劃板
接觸掩模版
LSC-4000產(chǎn)品主要特點：
21”外徑，15”x15”基片
450mm晶圓片
帶兆聲的大環(huán)境腔體
DI，刷子，熱N2
化學(xué)試劑滴膠臂
帶化學(xué)試劑滴膠的不同轉(zhuǎn)速的刷子
PC控制的系統(tǒng)，帶Labview軟件
觸摸板用戶界面
手動放片取片
聯(lián)鎖及報警
30”D x 26”W占地面積
LSC-4000選配項：
化學(xué)試劑輸送模塊
Piranha溶液清洗
臭氧化去離子水(20ppm的O3)
氫化的去離子水
高壓去離子水
加熱的去離子水
溶劑和酸分開排放
紅外加熱
去離子水循環(huán)器
耐火立柜
帶EFM以及SMIF界面的機(jī)械手載片/取片
