等離子體刻蝕機(jī)用于反應(yīng)離子蝕刻氧化物,氮化物??舍槍?duì)4",5"或6"晶圓。
設(shè)備描述:
1、真空系統(tǒng):愛(ài)德華干泵+I(xiàn)冷凝泵+LEYBOLD分子泵
2、真空檢測(cè):TC guage+I(xiàn)ON gauge+MKS薄膜壓力規(guī)
3、過(guò)程檢測(cè):激光薄膜厚度檢測(cè)
4、工作氣體:5路工作氣體+環(huán)行布?xì)庀到y(tǒng)
5、工件尺寸:4寸-6寸,可改進(jìn)到更大尺寸。如4寸,可裝載24片
6、工作電源:射頻功率源+匹配箱
7、控制系統(tǒng):全自動(dòng)工藝流程,高集成控制系統(tǒng)
8、保護(hù):考慮因素,人性話設(shè)計(jì)。