2、設備功能:反應離子刻蝕,氮化硅、氧化硅
3、設備應用:半導體、MEMS、電子、太陽能、薄膜電池等
4、設備配置:
*RFX600電源(60013.56瓦兆赫)射頻電源
*全自動射頻匹配器
*MKS的652節(jié)流閥控制
*SC技術得工藝深度檢測系統(tǒng)
*Techware系統(tǒng)TC-III型PLC
*巴爾查斯TCP-380渦輪泵控制器
*巴爾查斯TCU-330S渦輪泵
用途:離子刻蝕及PECVD系統(tǒng),用于半導體、電子、太陽能等領域
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