Karl SUSS MA56光罩對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)，利用紫外線通過(guò)模版對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光的設(shè)備，該設(shè)備為大規(guī)模集成電路、傳感器、表面波元件、微波、LED、CCD等器件生產(chǎn)的重要生產(chǎn)設(shè)備，適用于Si，SiGe，SOI，SOS，GaAs，InP，InSb，CZT，M，LiNbO3等各種基材。
主要工作原理：利用聚焦光束對(duì)聚合物（通常稱(chēng)光刻膠）進(jìn)行曝光，受電子束輻照后的光刻膠，其物理化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，在的溶劑中形成良溶或非良溶區(qū)域，從而在蝕劑上形成精細(xì)圖形。該系統(tǒng)可處理4"晶圓，工作模式有接近式、接觸式、真空接觸模式。顯微鏡具有雙重的定位目標(biāo)和分現(xiàn)場(chǎng)觀看?；_(tái)依靠電動(dòng)驅(qū)動(dòng)，可在X和Y方向移動(dòng)定位，以晶圓與光掩模板對(duì)準(zhǔn)。
主要組成部分：光源，為30瓦的氘燈，波長(zhǎng)為310 nm，一個(gè)350瓦汞弧燈，波長(zhǎng)為365 nm.預(yù)對(duì)準(zhǔn)板、晶片傳送系統(tǒng)，可支持2"，3"，4"的光刻卡盤(pán)系統(tǒng)。支持紫外近紫外波長(zhǎng)的顯微鏡對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。其他器手、電源控制、操作面板等
主要工作原理：利用聚焦光束對(duì)聚合物（通常稱(chēng)光刻膠）進(jìn)行曝光，受電子束輻照后的光刻膠，其物理化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，在的溶劑中形成良溶或非良溶區(qū)域，從而在蝕劑上形成精細(xì)圖形。該系統(tǒng)可處理4"晶圓，工作模式有接近式、接觸式、真空接觸模式。顯微鏡具有雙重的定位目標(biāo)和分現(xiàn)場(chǎng)觀看?；_(tái)依靠電動(dòng)驅(qū)動(dòng)，可在X和Y方向移動(dòng)定位，以晶圓與光掩模板對(duì)準(zhǔn)。
主要組成部分：光源，為30瓦的氘燈，波長(zhǎng)為310 nm，一個(gè)350瓦汞弧燈，波長(zhǎng)為365 nm.預(yù)對(duì)準(zhǔn)板、晶片傳送系統(tǒng)，可支持2"，3"，4"的光刻卡盤(pán)系統(tǒng)。支持紫外近紫外波長(zhǎng)的顯微鏡對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。其他器手、電源控制、操作面板等
