圓柱形主腔體:電拋光不銹鋼
低溫泵+干泵,真空度< 4×10 -8 Torr。
三個(gè)6’’ DC磁控靶源,可達(dá)8英寸;
分別配備擋板,無(wú)交叉污染。
RF加載到DC靶源可選,可用DC/RF。
氬氣和氮?dú)鈿饴房捎?/span>
4’’襯底加熱:750℃, 均勻性5℃內(nèi);單色光學(xué)高溫計(jì)
樣品臺(tái)冷卻:水冷
石英晶振監(jiān)測(cè)(DC/RF模式下均可)
襯底R(shí)F刻蝕及偏壓(13.56MHz,氣冷)
LOAD LOCK (帶自動(dòng)傳動(dòng)手臂)
分子泵+干泵,真空度< 2×10-7 Torr
全自動(dòng)傳動(dòng)襯底
控制單元:全自動(dòng)電腦控制,半自動(dòng)和手動(dòng)模式可選;遠(yuǎn)程維護(hù)可用。