儀器簡(jiǎn)介：
主要特點(diǎn)：
• 場(chǎng)發(fā)射 SEM、超穩(wěn)定高電流 Schottky 電子槍
• 先進(jìn)的光學(xué)和探測(cè)技術(shù)，包括沉浸模式、射束減速、透鏡內(nèi) TLD-SE 和 TLD–BSE、DBS 和 STEM，可實(shí)現(xiàn)信息選擇和圖像優(yōu)化
• 低至 50 V 的射束著陸能量
• 1.4 nm @ 1 kV、無(wú)射束減速
• 真正高分辨率的低真空 FESEM： 1.8 nm @ 3 kV 和 30 Pa
• 高達(dá) 200 nA 的高真空或低真空分析
• 整合式 16 位掃描/制圖引擎
• 超潔凈、無(wú)油滾動(dòng)和渦輪抽氣真空系統(tǒng)
• 150 x 150 mm 高精密、高穩(wěn)定壓電樣品臺(tái) (Nova NanoSEM 650)
Nova 系列掃描電子顯微鏡 (SEM) 具有低真空功能，是滿足研究實(shí)驗(yàn)室、半導(dǎo)體和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)實(shí)驗(yàn)室和制造工廠、生物和生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)室及其他行業(yè)各種成像、分析和樣品制備需求的理想之選。 Nova 系統(tǒng)包含 EBIC、冷凍樣品臺(tái)、STEM、EDS、WDS 和 EBSD。
技術(shù)參數(shù)：
| 分辨率 高真空 | 30 kV (STEM) 15 kV (TLD) 1 kV (TLD、無(wú) BD) 100 V (DBS) 15 kV, 5 nA | 0.8 nm 1.0 nm 1.4 nm 3.5 nm 3.0 nm |
| 分辨率 低真空 | 3 kV 和 30 Pa (Helix) 10 kV | 1.8 nm 1.5 nm |
| 射束電流 | 高達(dá) 200 nA | |
| 著陸電壓范圍 | 50 V - 30 kV | |
| 樣品臺(tái) | X x Y x Z (mm) | 110 x 110 x 25 150 x 150 x 10 |
| 機(jī)室 | 大試件室 | |
| 探測(cè) | 透鏡內(nèi) 透鏡下、大角度探測(cè)器 | TLD SE 和 BSE 高靈敏度 DBS (SE/BSE) |
主要特點(diǎn)：
• 場(chǎng)發(fā)射 SEM、超穩(wěn)定高電流 Schottky 電子槍
• 先進(jìn)的光學(xué)和探測(cè)技術(shù)，包括沉浸模式、射束減速、透鏡內(nèi) TLD-SE 和 TLD–BSE、DBS 和 STEM，可實(shí)現(xiàn)信息選擇和圖像優(yōu)化
• 低至 50 V 的射束著陸能量
• 1.4 nm @ 1 kV、無(wú)射束減速
• 真正高分辨率的低真空 FESEM： 1.8 nm @ 3 kV 和 30 Pa
• 高達(dá) 200 nA 的高真空或低真空分析
• 整合式 16 位掃描/制圖引擎
• 超潔凈、無(wú)油滾動(dòng)和渦輪抽氣真空系統(tǒng)
• 150 x 150 mm 高精密、高穩(wěn)定壓電樣品臺(tái) (Nova NanoSEM 650)
