EMS 575T雙頭高分辨率離子濺射鍍膜儀
　　
　　EMS 575T是一款渦輪泵雙頭高分辨率鍍膜儀（噴金儀）。EMS-575T樣本放置在旋轉(zhuǎn)樣品臺上（the rotary stage），蓋好蓋子（the chamber lid），按下啟動按鈕，渦輪分子泵開始加速，5秒鐘后，機械泵開始啟動，同時十秒氣體排空程序啟動，兩個泵同時運行一個高真空。當渦輪泵加速，它的速度由柱狀圖來標示，到達速度的一半時，真空計扭至自動狀態(tài)。當腔內(nèi)氣體壓降為10-4 mbar，排氣開始，腔內(nèi)氣壓維持在1 x 10-2 and 1 x 10-3 mbar之間，排氣的后階段，靶材按照預(yù)訂鍍膜時間開始噴鍍。鍍膜需要兩種不同金屬的，不需要關(guān)泵，繼續(xù)濺射另一種金屬。噴鍍完成后，兩個泵停止，排氣閥排氣。
　　儀器質(zhì)保期2年。模塊化的單元結(jié)構(gòu)使得儀器維護方便，摘掉問題模塊，換上無問題的模塊，儀器即可很好的運行，一點不會耽誤實驗進程。
　　
　　性能特征：
　　全自動一鍵式操作，微處理器數(shù)字控制方式，可預(yù)設(shè)參數(shù)
　　LCD屏實時顯示狀態(tài)參數(shù)
　　質(zhì)保期：標準保修期為一年
　　高分辨率精細鍍層（不過0.5nm的鉻顆粒大?。?
　　薄金屬鍍層，典型5nm厚
　　渦輪分子泵
　　Peltier冷卻雙濺射頭，無需冷卻水
　　雙濺射頭：真空條件下，可順序濺射兩種不同的材料，對于需要依次噴鍍兩種金屬的樣品適用
　　磁控濺射靶源設(shè)計
　　旋轉(zhuǎn)機械泵為備用泵，機械泵為外部安裝式
　　儀器參數(shù)：
　　
　　儀器尺寸 450mm（W）x 350mm（D）x 175mm（H）
　　工作腔室硼硅酸鹽玻璃：165mm（Dia.）x 125mm（H）
　　加不銹鋼底座 110mm（Dia.）x 115mm（H）
　　重量 42Kg
　　靶材 54mm（Dia.）x 0.2mm（Thick）（標準鉻靶材和金靶材）
　　樣品臺 60mm（Dia.），以60 r.p.m 旋轉(zhuǎn)，的傾斜度
　　真空泵工作范圍（Penning）ATM to 1x10-7 mbar，鍍膜腔體限真空度10-7 mbar
　　操作真空 1x10-3 mbar to 1x10-4 mbar
　　濺射電流 0-175mA
　　濺射時間 0-4 minutes
　　功率 1000V at 100 ma，100 watts
　　沉積速率 30nm/min at 100mA
　　渦輪分子泵 60 litres/Second（Ultimate vacuum 1x10-8 mbar）
　　電源配置 230 volts 50Hz（6 AMP Max incl pump）
　　Services Argon＆shy；Nominal 4 psi
　　真空泵（推薦配件）附帶真空管和油氣過濾器