結(jié)構(gòu)
一個(gè)NMOS晶體管的立體截面圖左圖是一個(gè)N型 MOSFET(以下簡(jiǎn)稱NMOS)的截面圖。如前所述,MOSFET的是位于的MOS電容,而左右兩側(cè)則是它的源與漏。源與漏的特性須同為N型(即NMOS)或是同為P型(即PMOS)。右圖NMOS的源與漏上標(biāo)示的“N+”代表著兩個(gè)意義:⑴N代表?yè)诫s(d)在源與漏區(qū)域的雜質(zhì)性為N;⑵“+”代表這個(gè)區(qū)域?yàn)楦邠诫s濃度區(qū)域(heavily d region),也就是此區(qū)的電子濃度遠(yuǎn)高于其他區(qū)域。在源與漏之間被一個(gè)性相反的區(qū)域隔開,也就是所謂的基(或稱基體)區(qū)域。如果是NMOS,那么其基體區(qū)的摻雜就是P型。反之對(duì)PMOS而言,基體應(yīng)該是N型,而源與漏則為P型(而且是重(讀作zhong)摻雜的P+)?;w的摻雜濃度不需要如源或漏那么高,故在右圖中沒(méi)有“+”。
對(duì)這個(gè)NMOS而言,真正用來(lái)作為通道、讓載流子通過(guò)的只有MOS電容正下方半導(dǎo)體的表面區(qū)域。當(dāng)一個(gè)正電壓施加在柵上,帶負(fù)電的電子就會(huì)被吸引至表面,形成通道,讓N型半導(dǎo)體的多數(shù)載流子—電子可以從源流向漏。如果這個(gè)電壓被移除,或是放上一個(gè)負(fù)電壓,那么通道就無(wú)法形成,載流子也無(wú)法在源與漏之間流動(dòng)。假設(shè)操作的對(duì)象換成PMOS,那么源與漏為P型、基體則是N型。在PMOS的柵上施加負(fù)電壓,則半導(dǎo)體上的空穴會(huì)被吸引到表面形成通道,半導(dǎo)體的多數(shù)載流子—空穴則可以從源流向漏。假設(shè)這個(gè)負(fù)電壓被移除,或是加上正電壓,那么通道無(wú)法形成,一樣無(wú)法讓載流子在源和漏間流動(dòng)。要說(shuō)明的是,源在MOSFET里的意思是“提供多數(shù)載流子的來(lái)源”。對(duì)NMOS而言,多數(shù)載流子是電子;對(duì)PMOS而言,多數(shù)載流子是空穴。相對(duì)的,漏就是接受多數(shù)載流子的端點(diǎn)。溫馨提示:
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