THEMIS深度紫外臭氧清洗與反應(yīng)系統(tǒng),是一部應(yīng)用深度紫外輻射(主要光波是184.9nm及253.7nm)表面原子級(jí)潔凈以及對(duì)物件產(chǎn)生光清洗、光化學(xué)反應(yīng)、光改質(zhì)等效應(yīng)的科學(xué)設(shè)備,由中科院與芬蘭資深合作設(shè)計(jì),重要部件的制造以及調(diào)校由航天部工程師親自完成。
產(chǎn)品參數(shù)介紹:
型號(hào) UVO-4 UVO-8
UV光波 253.7nm和184.9nm
清洗面積 12cm×12cm(4.5inch) 20cm×20cm(8inch)
光照強(qiáng)度 達(dá)50mW/cm2,實(shí)時(shí)顯示
時(shí)間設(shè)置 0-9999s任意設(shè)置,實(shí)時(shí)數(shù)字顯示
溫度 0.1℃,實(shí)時(shí)數(shù)字顯示,可平滑控制
物臺(tái)調(diào)高 范圍:0mm~35mm,:1mm
燈管材質(zhì) 固態(tài)金屬雙波汞燈
燈管功率 125W 250W
燈管形狀 格柵式燈管
燈管壽命 10000小時(shí)
整機(jī)尺寸 550mm寬×310mm高×670mm長(zhǎng)
警示保護(hù)功能 有
臭氧排風(fēng)系統(tǒng) 有
電源參數(shù) 220V/AC/50Hz
整機(jī)功率 150W 280W
整機(jī)重量 25KG
應(yīng)用領(lǐng)域 ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理,液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等物去除,性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。還能對(duì)特定材料進(jìn)行表面改性,增加浸潤性?!?