磁控濺射和電子束蒸發(fā)鍍膜一體機(jī)是納米器件制備中不可少的儀器，用于制備各種高屬薄膜和氧化物薄膜。開展量子計(jì)算機(jī)實(shí)驗(yàn)研究，如基于金剛石NV色心，離子阱，導(dǎo)量子結(jié)，量子點(diǎn)電子自旋的研究，均需要蒸鍍/濺鍍各種高質(zhì)量金屬薄膜來制備量子器件。
　　
　　配置概要：
　　
　　
　　1、系統(tǒng)配有多個腔室：UHV蒸發(fā)室、UHV濺射室，load lock等，用于制備約瑟夫森結(jié)。
　　
　　
　　2、電子束蒸發(fā)源：（4-6）x 15cc，6-15KW，2-10KV可調(diào)。
　　
　　3、濺射室配有多個磁控靶源，每個靶源有的擋板，配備氣路。
　　
　　4、可以注入多種氣體，進(jìn)行氧化處理，并且可控制其壓強(qiáng)。
　　
　　5、樣品臺可以適用于3英寸以上晶片，且具有樣品臺傾斜和旋轉(zhuǎn)功能（三維轉(zhuǎn)動）。
　　
　　6、樣品襯底在鍍膜前可以通過離子進(jìn)行清潔。
　　
　　7、主要真空腔真空度可達(dá)10-9-10-10 Torr.
　　
　　8、可以沉積幾乎任何金屬及氧化物薄膜。
　　
　　9、蒸鍍厚度控制速度分辨率：0.001nm/s
　　
　　10、整個系統(tǒng)全自動控制，支持半自動和手動模式。
　　
　　代表用戶：導(dǎo)及量子器件研究實(shí)驗(yàn)室。