生長大面積光學(xué)窗口（紅外窗口、激光輸出窗口）、探測窗口、微波窗口等

品特點概述
適用范圍：生長大面積金剛石薄膜(4-10英寸，甚至更大)
生長速度：可幾μm-幾十μm/h，甚至更高；
生長范圍：可在直徑100m范圍內(nèi)生長、或者在直徑300m范圍內(nèi)生長。



研究及小規(guī)模生產(chǎn)型：

微波功率：2.45GHz，6KW, 脈沖模式可選 (沉積速度和質(zhì)量)；

樣品臺：直徑75-100m,旋轉(zhuǎn)襯底可選（大面積均勻性）;

真空系統(tǒng)：機(jī)械泵，TMP可選（營造高真空基準(zhǔn)）；

控制方式：半自動或全自動(操作靈活)；

生長速率：30μm/h.

整體特點：專門生長大面積熱沉級、光學(xué)級多晶薄膜配置，適合于研發(fā)、小規(guī)模生產(chǎn)。






大面積光學(xué)級金剛石厚膜生產(chǎn)研究型：

微波功率：915MHz，30KW；

水冷襯底：直徑250m或更大; 襯底加熱和襯底旋轉(zhuǎn)可選.
         4個4英寸襯底, 加熱和旋轉(zhuǎn)襯底可選

真空系統(tǒng)：oil pump / dry pump+TMP（營造高真空基準(zhǔn)）；

控制系統(tǒng)：全自動控制（適合大批量生產(chǎn)）；

生長速率：30μm/h, 或更率

整體特點：專門大面積金剛石薄膜研究及生產(chǎn)配置；可獲得4-10英寸光學(xué)級金剛石厚膜，也可以用于研究合成曲面自支撐金剛石厚膜，請詳細(xì)咨詢！