型號(hào):NXQ400-6
產(chǎn)地:美國(guó)
一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
MYCRO原裝美國(guó)恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)(Mask Aligner),是的光刻系統(tǒng),在光刻領(lǐng)域有過(guò)35年的經(jīng)驗(yàn),售出1000多套設(shè)備,為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二管芯片、發(fā)光二體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域??蛻羧缑绹?guó)航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、美國(guó)半導(dǎo)體公司、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)、臺(tái)塑、墨爾本大學(xué)、華盛頓州立大學(xué)、方大集團(tuán)、大聯(lián)大集團(tuán)、光寶科技、漢磊股份、廈門乾照光電股份有限公司等等。
恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中,N&Q4000系列光刻機(jī)是以半自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)的操作性,的分辨率,均勻的光學(xué)系統(tǒng),現(xiàn)代的接近式和接觸式光刻及的性價(jià)比,使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被各地眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用,并成為他們光刻系統(tǒng)的;
二、技術(shù)參數(shù):
1、芯片尺寸:5mm~150mm的圓片/方片和不規(guī)則碎片(支持對(duì)不規(guī)則碎片的卡盤設(shè)計(jì));
2、曝光波長(zhǎng):350nm-450nm(其它波長(zhǎng)可選配);
3、汞燈功率:350W/500W(其它功率可選配);
4、分辨率:0.5um;
5、曝光模式:支持接近式曝光,各種接觸式(真空接觸、軟接觸、硬接觸等)曝光;
6、出射光強(qiáng)范圍:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm;
7、支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式;
8、曝光時(shí)間:0.1~999.9s;
9、對(duì)準(zhǔn):雙高清彩色CCD+雙高清彩色器,對(duì)準(zhǔn)可0.4微米內(nèi);
10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜轉(zhuǎn)換器);
11、光強(qiáng)均勻性Uniformity:
<±1%over 2"區(qū)域;
<±2%over 4"區(qū)域;
<±3%over 6"區(qū)域;
12、雙面光刻:具備背面紅外對(duì)準(zhǔn)(IR BSA)和光學(xué)背面對(duì)準(zhǔn)(OBS BSA),雙面對(duì)準(zhǔn)≤2μm;
13、電源:高靈敏度光強(qiáng)可控電源。
可選型號(hào):
NXQ400-6
NXQ400-8
NXQ800-6
NXQ8006 Sapphire
NXQ800-8
三、產(chǎn)品特點(diǎn):
可選支持單面對(duì)準(zhǔn)和雙面對(duì)準(zhǔn)設(shè)計(jì);
高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場(chǎng)顯微鏡鏡頭(基于無(wú)限遠(yuǎn)修正的CCD鏡頭設(shè)計(jì));雙頭高清全彩物鏡(單視場(chǎng)或分裂視場(chǎng)可供用戶靈活選擇);
高清彩色雙顯示屏;
氣動(dòng)軸承導(dǎo)軌設(shè)計(jì),高精準(zhǔn),低磨損,無(wú)需售后維護(hù)的;
具有自動(dòng)執(zhí)行楔形誤差補(bǔ)償,并在找平后自動(dòng)定位功能;
操作簡(jiǎn)易,具有支持多操作員同臺(tái)使用的友好操作界面;
操控手柄調(diào)控模式的設(shè)計(jì);
采用LED穿透物鏡照明技術(shù),具有強(qiáng)對(duì)準(zhǔn)亮度;
采用基于無(wú)限遠(yuǎn)修正的顯微鏡鏡頭架構(gòu);
衍射反射的光學(xué)光路設(shè)計(jì);
帶保護(hù)功能的溫度和氣流傳感器;
全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角:<1.84度;
設(shè)備穩(wěn)定性,耐用性;
四、需要更詳細(xì)的恩科優(yōu)光刻機(jī)產(chǎn)品資料
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長(zhǎng)150mm 寬140mm 厚5mm
長(zhǎng)140mm 寬65mm 厚5mm