品牌：恩科優(yōu)（N＆Q）
型號(hào)：NXQ400-6
一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
MYCRO原裝恩科優(yōu)N＆Q系列光刻機(jī)（Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有過(guò)35年的經(jīng)驗(yàn)。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域。如美國(guó)航空航天公司、美國(guó)朗唐納、飛利浦、摩托羅拉、惠普、美國(guó)半導(dǎo)體公司、美國(guó)國(guó)際整流公司、斯坦福大學(xué)、美國(guó)加州大學(xué)伯克利分校、倫敦大學(xué)、臺(tái)塑、墨爾本大學(xué)、華盛頓州立大學(xué)、方大集團(tuán)股份有限公司、大聯(lián)大集團(tuán)、廈門乾照光電股份有限公司等等。
恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，N＆Q4000系列光刻機(jī)是以半自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)的操作性，的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)，現(xiàn)代的接近式和接觸式光刻及的性價(jià)比，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被各地眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統(tǒng)的；
二、技術(shù)參數(shù)：
1、曝光面積：5mm~150mm
2、分辨率：0.55微米；
3、對(duì)準(zhǔn)：采用雙面對(duì)準(zhǔn)技術(shù)，可0.5微米；
4、光強(qiáng)均勻度：＋/-3%（4英寸）和＋/-4%（6英寸）。
5、曝光模式：支持接近式曝光，各種接觸式（真空接觸、軟接觸、硬接觸等）曝光；
a、接近式曝光特征尺寸：
1um＠Gap為20 um；
2um＠Gap為50 um；
b、接觸式曝光特征尺寸：
0.35um＠深紫外DUV；
0.5um＠近紫外NUV；
0.6um＠紫外UV；
更廣范圍（UV，DUV，NUV）的紫外光波長(zhǎng)選擇，出射光強(qiáng)范圍：8mW/cm2~40mW/cm2
支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式；
6、掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸（2 x 2英寸需要掩膜轉(zhuǎn)換器）；
7、樣片尺寸直徑：5mm~150mm的圓片/方片和不規(guī)則碎片（支持對(duì)不規(guī)則碎片的卡盤設(shè)計(jì)）；
8、厚度：10mm
9、光強(qiáng)均勻性Uniformity：
<±1%over 2"區(qū)域；
<±2%over 4"區(qū)域；
<±3%over 6"區(qū)域；
10、汞燈功率：350W/500W
11、曝光波長(zhǎng)：350nm-450nm
12、電源：高靈敏度光強(qiáng)可控電源。
三、產(chǎn)品特點(diǎn)：
可選支持單面對(duì)準(zhǔn)和雙面對(duì)準(zhǔn)設(shè)計(jì)；
高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場(chǎng)顯微鏡鏡頭（基于無(wú)限遠(yuǎn)修正的CCD鏡頭設(shè)計(jì)）；雙頭高清全彩物鏡（單視場(chǎng)或分裂視場(chǎng)可供用戶靈活選擇）；
高清彩色雙顯示屏；
氣動(dòng)軸承導(dǎo)軌設(shè)計(jì)，高精準(zhǔn)，低磨損，無(wú)需售后維護(hù)的；
具有自動(dòng)執(zhí)行楔形誤差補(bǔ)償，并在找平后自動(dòng)定位功能；
操作簡(jiǎn)易，具有支持多操作員同臺(tái)使用的友好操作界面；
操控手柄調(diào)控模式的設(shè)計(jì)；
采用LED穿透物鏡照明技術(shù)，具有強(qiáng)對(duì)準(zhǔn)亮度；
采用基于無(wú)限遠(yuǎn)修正的顯微鏡鏡頭架構(gòu)；
衍射反射的光學(xué)光路設(shè)計(jì)；
帶保護(hù)功能的溫度和氣流傳感器；
全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角：<1.84度；
設(shè)備穩(wěn)定性，耐用性；
需要更詳細(xì)的恩科優(yōu)光刻機(jī)產(chǎn)品資料
請(qǐng)與邁可諾技術(shù)有限公司中銷服務(wù)中心區(qū)域辦公室聯(lián)系！
型號(hào)：NXQ400-6
一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
MYCRO原裝恩科優(yōu)N＆Q系列光刻機(jī)（Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有過(guò)35年的經(jīng)驗(yàn)。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域。如美國(guó)航空航天公司、美國(guó)朗唐納、飛利浦、摩托羅拉、惠普、美國(guó)半導(dǎo)體公司、美國(guó)國(guó)際整流公司、斯坦福大學(xué)、美國(guó)加州大學(xué)伯克利分校、倫敦大學(xué)、臺(tái)塑、墨爾本大學(xué)、華盛頓州立大學(xué)、方大集團(tuán)股份有限公司、大聯(lián)大集團(tuán)、廈門乾照光電股份有限公司等等。
恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，N＆Q4000系列光刻機(jī)是以半自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)的操作性，的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)，現(xiàn)代的接近式和接觸式光刻及的性價(jià)比，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被各地眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統(tǒng)的；
二、技術(shù)參數(shù)：
1、曝光面積：5mm~150mm
2、分辨率：0.55微米；
3、對(duì)準(zhǔn)：采用雙面對(duì)準(zhǔn)技術(shù)，可0.5微米；
4、光強(qiáng)均勻度：＋/-3%（4英寸）和＋/-4%（6英寸）。
5、曝光模式：支持接近式曝光，各種接觸式（真空接觸、軟接觸、硬接觸等）曝光；
a、接近式曝光特征尺寸：
1um＠Gap為20 um；
2um＠Gap為50 um；
b、接觸式曝光特征尺寸：
0.35um＠深紫外DUV；
0.5um＠近紫外NUV；
0.6um＠紫外UV；
更廣范圍（UV，DUV，NUV）的紫外光波長(zhǎng)選擇，出射光強(qiáng)范圍：8mW/cm2~40mW/cm2
支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式；
6、掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸（2 x 2英寸需要掩膜轉(zhuǎn)換器）；
7、樣片尺寸直徑：5mm~150mm的圓片/方片和不規(guī)則碎片（支持對(duì)不規(guī)則碎片的卡盤設(shè)計(jì)）；
8、厚度：10mm
9、光強(qiáng)均勻性Uniformity：
<±1%over 2"區(qū)域；
<±2%over 4"區(qū)域；
<±3%over 6"區(qū)域；
10、汞燈功率：350W/500W
11、曝光波長(zhǎng)：350nm-450nm
12、電源：高靈敏度光強(qiáng)可控電源。
三、產(chǎn)品特點(diǎn)：
可選支持單面對(duì)準(zhǔn)和雙面對(duì)準(zhǔn)設(shè)計(jì)；
高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場(chǎng)顯微鏡鏡頭（基于無(wú)限遠(yuǎn)修正的CCD鏡頭設(shè)計(jì)）；雙頭高清全彩物鏡（單視場(chǎng)或分裂視場(chǎng)可供用戶靈活選擇）；
高清彩色雙顯示屏；
氣動(dòng)軸承導(dǎo)軌設(shè)計(jì)，高精準(zhǔn)，低磨損，無(wú)需售后維護(hù)的；
具有自動(dòng)執(zhí)行楔形誤差補(bǔ)償，并在找平后自動(dòng)定位功能；
操作簡(jiǎn)易，具有支持多操作員同臺(tái)使用的友好操作界面；
操控手柄調(diào)控模式的設(shè)計(jì)；
采用LED穿透物鏡照明技術(shù)，具有強(qiáng)對(duì)準(zhǔn)亮度；
采用基于無(wú)限遠(yuǎn)修正的顯微鏡鏡頭架構(gòu)；
衍射反射的光學(xué)光路設(shè)計(jì)；
帶保護(hù)功能的溫度和氣流傳感器；
全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角：<1.84度；
設(shè)備穩(wěn)定性，耐用性；
需要更詳細(xì)的恩科優(yōu)光刻機(jī)產(chǎn)品資料
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