產(chǎn)品品牌：

NANOVEA

產(chǎn)品型號：

ST400

美國NANOVEA公司的三維非接觸式光學(xué)輪廓儀 三維非接觸輪廓儀(3D Profiling)   該儀器采用白光軸向色差原理（性能優(yōu)于白光干涉輪廓儀與激光干涉輪廓儀）對樣品表面進行快速、重復(fù)性高、高分辨率的三維測量，測量范圍可從納米級粗糙度到毫米級的表面形貌，臺階高度，給MEMS、半導(dǎo)體材料、太陽能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料，光學(xué)元件、陶瓷和先進材料的研發(fā)和生產(chǎn)提供了一個的、價格合理的計量方案   這款產(chǎn)品憑借其當今世界前端的技術(shù),迅速占領(lǐng)國內(nèi)外市場, 產(chǎn)品特性： 1  采用白光軸向色像差技術(shù)，可獲得納米級的分辨率 2  測量具有非破壞性，測量速度快，度高 3  測量范圍廣，可測透明、金屬材料，半透明、高漫反射，低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學(xué)材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…)； 4  尤其適合測量高坡度高曲折度的材料表面 5  不受樣品反射率的影響 6  不受環(huán)境光的影響 7  測量簡單，樣品無需特殊處理 8  Z方向測量范圍為27mm       美國NANOVEA公司是一家公認的在微納米尺度上的光學(xué)表面輪廓測量技術(shù)的，生產(chǎn)的光學(xué)輪廓儀是目前國際上用在科學(xué)研究和工業(yè)領(lǐng)域先進表面輪廓測量設(shè)備，該公司在光學(xué)設(shè)計、精密機械和科學(xué)軟件算法方面，擁有長期不斷發(fā)展的技術(shù)，由于這些專門技術(shù)的應(yīng)用，NANOVEA為生產(chǎn)和質(zhì)量控制的研究和發(fā)展提供精密準確的全方位解決方案。 NANOVEA的表面測量系統(tǒng)適用于研發(fā)和生產(chǎn)過程控制中的定性和定量測量，其部件達到納米尺度的創(chuàng)新的光學(xué)設(shè)計，其強大且友好的軟件控制使所需獲得的數(shù)據(jù)不僅速度快，而且高，并提供了多種不同的表面分析方法，與系統(tǒng)匹配的軟件包含參數(shù)設(shè)定(如掃描尺寸、線數(shù)、步進、轉(zhuǎn)換臺速度、數(shù)據(jù)采樣速度)和數(shù)據(jù)后處理功能(如Abbott-Firestone曲線、快速傅立葉變換、自相關(guān)功能、三維成像、二維切片成像等) ，可以定量地測量表面粗糙度及關(guān)鍵尺寸，諸如晶粒、膜厚、孔洞深度、長寬、線粗糙度、面粗糙度等，并計算關(guān)鍵部位的面積和體積等參數(shù)。 垂直測量范圍：27mm 垂直分辨率：<2nm 掃描速度 1m/s 橫向分辨率：5nm 可視區(qū)域： 400*600mm