美國EXTORR殘余氣體分析儀
特點(diǎn)及應(yīng)用:
•操作簡單
•,方便
•在線原位分析真空環(huán)境及工藝氣體
•定性或定量分析監(jiān)測濺射鍍膜反應(yīng)工藝過程中真空室內(nèi)的氣體分壓強(qiáng)
•優(yōu)化工藝過程參數(shù),鍍膜產(chǎn)品質(zhì)量
•對真空系統(tǒng)檢漏
在工藝中的效果
•質(zhì)量
•流片量
•減少停機(jī)時間
•改進(jìn)工藝
•縮小工藝周期
•降
規(guī)格:
測量氣體范圍 XT100(M) XT200(M) XT300(M) |
1到100 amu 1到200 amu 1到300 amu |
檢測類型 |
法拉第杯(FC)或電子器(EM) |
靈敏度(A/mbar) |
5×10-4torr,法拉第杯,氮28, 10%峰高 |
分辨率 |
1 amu,10%峰高 |
小可檢分壓強(qiáng) |
10-11 torr或10-14torr(電子器),氮28,10%峰高 |
工作范圍 |
10-4 torr到真空 |
工作環(huán)境溫度 |
40°C |
烘烤溫度 |
300°C(不包括CCU) |
通訊端口 |
RS-232C,115,200 Baud |
軟件運(yùn)行環(huán)境 |
Windows® 2000或XP |