E型電子束蒸發(fā)源
　　一、概述
　　本蒸發(fā)源系坩堝由電機(jī)直接驅(qū)動(dòng)、電子束偏轉(zhuǎn)角為270º、用于蒸鍍各種金屬和非金屬材料的磁偏轉(zhuǎn)式E型電子束蒸發(fā)裝置。
　　用于真空鍍膜過(guò)程中電子束蒸發(fā)鍍膜。實(shí)際中廣泛應(yīng)用于：增透膜、眼鏡鍍膜、光纖光學(xué)、高反鏡、熱／冷反光鏡、低漂移濾波器、帶通濾波器等。電子束蒸發(fā)能夠很好的控制薄膜厚度、控制薄膜的均勻性，增加鍍膜的一致性和重復(fù)性，薄膜易于控制。
　　
　　主要特點(diǎn)：
　　結(jié)構(gòu)
　　充分借鑒國(guó)內(nèi)外的電子的優(yōu)點(diǎn)，具有的水冷和密封結(jié)構(gòu)，經(jīng)多次長(zhǎng)時(shí)間的，電子能夠在很大的電子束流下長(zhǎng)期穩(wěn)定工作。
　　可在高溫環(huán)境下長(zhǎng)期工作
　　在通常鍍膜工藝中，工件需加熱至很高溫度，整個(gè)真空室內(nèi)溫度很高，而本電子良好的冷卻系統(tǒng)能電子在 400℃的高溫環(huán)境下長(zhǎng)期正常工作。
　　適用于反應(yīng)氣體
　　在反應(yīng)沉積鍍膜過(guò)程中，通常需要用氧氣或氮?dú)獾扰c蒸發(fā)的膜料進(jìn)行反應(yīng)沉積所需薄膜，在此過(guò)程中增加反應(yīng)氣體的和能量，對(duì)形成高質(zhì)量薄膜。本電子可以在通入反應(yīng)氣體下正常工作。
　　安裝簡(jiǎn)便、維護(hù)簡(jiǎn)單運(yùn)行成本低
　　本電子的安裝簡(jiǎn)單，耗材只是燈絲及磁件，日常維護(hù)工作主要是更換燈絲及磁件。
　　操作簡(jiǎn)單
　　電子的操作簡(jiǎn)單，通過(guò)調(diào)節(jié)電子的電子束束流以及掃描幅度即可使電子穩(wěn)定工作（手動(dòng)及全自動(dòng)）。控制面板上能直接觀察到燈絲電壓、電流。
　　
　　二、主要技術(shù)參數(shù)
　　1、電子束偏轉(zhuǎn)角：270º
　　2、陽(yáng)電壓：6KV、8KV二檔
　　3、陰加熱電源：AC 3V＋3V，60A可調(diào)
　　4、束流：間冷坩堝0～500mA、直冷坩堝0～1A
　　5、坩堝容量（標(biāo)準(zhǔn)型）4孔間冷：4×17mL；4孔直冷：4×22mL；環(huán)形直冷：85mL
　　6、磁場(chǎng)電源
　　X偏轉(zhuǎn)電流：&plun;2A可調(diào)
　　掃描頻率：10～250HZ
　　Y偏轉(zhuǎn)電流：&plun;2A可調(diào)
　　掃描頻率：10～250HZ
　　7、啟動(dòng)真空度：6.7×10-a
　　8、坩堝定位（四孔坩堝）：電控自動(dòng)或手動(dòng)點(diǎn)控
　　9、坩堝冷卻水
　　進(jìn)水溫度：≤25℃
　　進(jìn)水壓力：≥0.2MPa
　　水流量：≥8L／min
　　10、電子體接地電阻：≤4Ω