一、  系統(tǒng)用途：
　　設(shè)備主要制備單層膜、多層膜和多組份的金屬膜、合金膜、氧化物薄膜等。
　　二、技術(shù)指標(biāo)：
　　1、采用雙室結(jié)構(gòu)：一個(gè)主濺射室（濺射鍍膜室）；一個(gè)為樣品室（樣品取放）；
　　2、濺射室限真空度：6.7×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S；
　　進(jìn)樣室限真空度：6.7×10-4Pa，系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S；
　　3.臺(tái)的加溫溫度為500℃，程序控溫；升溫、恒溫、降溫時(shí)間可控（降溫速率小于自然降溫速率）；
　　4.現(xiàn)自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速為：0～50轉(zhuǎn)/分；
　　5.樣品臺(tái)可實(shí)現(xiàn)升降，手動(dòng)調(diào)節(jié)，升降距離為：&plun;10mm；
　　6.系統(tǒng)限真空度為：6.7×10-5Pa；
　　7.靶基距：靶表面與樣品垂直距離為170mm&plun;20mm，用光軸加直線軸承導(dǎo)向，可手動(dòng)連續(xù)調(diào)節(jié)，有刻度指示。
　　三、系統(tǒng)組成：
　　本系統(tǒng)為兩室結(jié)構(gòu)的真空控濺射鍍膜設(shè)備，主要由真空抽氣及測(cè)量系統(tǒng)、濺射室系統(tǒng)、靶及電源系統(tǒng)、樣品臺(tái)系統(tǒng)、樣品室系統(tǒng)、樣品交接與傳遞系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控及計(jì)算機(jī)控制功能、輔助系統(tǒng)等組成。