過去，硬質(zhì)合金機用絲攻表面涂層采用高溫化學氣相沉積（HTCVD）工藝。在常壓或負壓的沉積系統(tǒng) 中，將純凈的H2、CH4、N2、TiCl4、AlCl3、CO2等氣體根據(jù)沉積物的成分，按一定配比均勻混和，依次涂到具備一定溫度（一般為 1000~1050℃）的硬質(zhì)合金刀片表面，即在機用絲攻表面沉積TiC、TiN、TiCN、Al2O3或者它們的復合涂層。直到現(xiàn)在，HTCVD仍是使用 多的工藝方法，除HTCVD外，還有等離子體化學氣相沉積（PCVD）工藝，它是在硬質(zhì)合金機用絲攻表面涂層的另一種方法，因這種涂層工藝溫度較低 （700~800℃），故刀片的抗彎強度降低。因為TiC與基體材料的線膨脹系數(shù)接近，通常用TiC薄層先涂在基體表面上，外面再涂TiN、 Al2O3，如TiC/TiN、TiC/Al2O3、TiC/TiCN/TiN等。
后來，發(fā)展了各種不同組合的多層涂層。筆者在多次展覽會上調(diào)查和統(tǒng)計了瑞典、德國、美國、日本、韓國、以色列和中國各公司的CVD涂層硬質(zhì)合金刀片 產(chǎn)品，涂層材料有以下組合：TiCN/Al2O3、TiCN/TiC/TiN、TiCN/TiC/Al2O3、TiCN/Al2O3/TiN、TiCN /TiC/Al2O3/TiN、TiCN/Al2O3/TiCN、TiN,TiC/TiCN/TiN、TiN/TiCN/TiN等?？梢钥闯?，近年多用 TiCN或TiN作底層，這是因為基體硬質(zhì)合金有了改進，例如采用了梯度結(jié)構(gòu)，才有可能用TiCN或TiN墊底。此外，TiN涂層不宜單獨使用，因為與硬 質(zhì)合金相比，TiN的硬度提高不多，TiN必須與TiC、TiCN、Al2O3等組合使用。
     早 期，PVD涂層均采用“真空蒸鍍法”，膜層往往不均勻，與基體的結(jié)合不夠牢固，后發(fā)展了“真空磁控濺射法”和“真空等離子鍍工藝”，效果很好。現(xiàn)在機用絲攻表 面涂層主要用后兩種方法。
早年，PVD涂層只用于高速鋼機用絲攻，涂層材料幾乎只用TiN一種。后來，改進了涂層工藝，發(fā)展了多種涂層 材料和多層涂層，在硬質(zhì)合金機用絲攻上也得到了大量的應用。涂層效果比以往大有進步。TiN涂層材料仍在使用，新興的涂層材料是TiAlN和AlTiN，其使 用效果優(yōu)于TiN。
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