GD-Profiler2可以快速、同時分析七十余種元素，包括氮、氧、氫和氯元素，是一種用于薄膜(包括涂層、鍍層、滲層等)成份和工藝分析的理想工具。
GD-Profiler2采用脈沖工作模式的RF光源，可以有效地分析熱傳導性能差和熱敏感的樣品。應用領域包括腐蝕與防腐、PVD、CVD、過程控制，也可用于日常的金屬和合金的產品質量控制與檢測。
詳細指標參數可訪問https://www.horiba.com/cn/scientific/products
技術參數：
*RF射頻發(fā)生器- 標準配置，符合E級標準，穩(wěn)定性高，濺射束斑極為平坦，等離子體穩(wěn)定時間極短，表面信息無任何失真。
*脈沖工作模式既可分析常見的涂、鍍層和薄膜，也可以很好的分析熱傳導性能差和熱易碎的涂、鍍層和薄膜。
*多道(同時)型光學系統可全譜覆蓋，光譜范圍：110nm至800nm，包含遠紫外，可分析C, H, O, N, Cl
*HORIBA Jobin Yvon 的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器有光通量，因而有的光效率和靈敏度
*HDD® 檢測器可進行快速而高靈敏的檢測，動態(tài)范圍達到10個量級
*寬大的樣品室方便各類樣品的加載
*功能強大的QUANTUMT XP軟件可以多種格式靈活方便的輸出檢測
*激光指點器(CenterLite laser pointer，申請中)可用于加載樣品
*HORIBA Jobin Yvon獨有的單色儀(選配件)可極大的提高儀器的靈活性，可同時測定N+1個元素
主要特點：
HORIBA Jobin Yvon 所生產的輝光放電發(fā)射光譜儀(RF-GD-OES)采用射頻(RF)光源，可以進行導體和非導體材料的基體、表面、逐層分析，是一種快速的、操作簡單的分析手段。
GDS是一種理想的表面、逐層分析工具，分析深度高達幾百微米，深度分辨率可至原子層。
HORIBA Jobin Yvon所生產的輝光放電光譜儀(GD)全部采用技術的HDD(High Dynamic range Detection)檢測器，可以實時、自動優(yōu)化工作參數，在靈敏度和動態(tài)范圍不受任何損失的情況下，一個分析通道就能完全滿足同一元素在不同層面內微量和主量的測定。
