| 品牌 | K-MAC | 型號 | ST5030 |
| 外形尺寸 | 500 x 750 x 650 mm（mm） | 重量 | 80Kg（Kg） |
| 產(chǎn)品用途 | 測量 |
| Stage Size | 300mm x 300mm |
| Measurement Range | 100?~ 35?(Depends on Film Type) |
| Spot size | 40?/20?,4?(option) |
| Measurement Speed | 1~2 sec./site (fitting time) |
| Application Areas | All Capability of ST2000 & More Precision Measurement Intended for Large Size Wafer Measure |
| Option | Reference sample(K-MAC or KRISS or NIST) Anti-vibration table |
| Revolving nosepiece | Quintuple Revolving Nosepiecs |
| Focus | Coaxial Coarse and Fine Focus Controls |
| Incident illumination | 12v 100W Halogen Lamp |
本產(chǎn)品適用于半導(dǎo)體領(lǐng)域內(nèi)，測量薄膜厚度的光學(xué)分析儀器。我公司的ST產(chǎn)品的測量時間非常短暫，測量方法是屬于非接觸非破壞方法，使用顯微鏡可以測量很小區(qū)域內(nèi)的再現(xiàn)性和準(zhǔn)確性，現(xiàn)在，我們公司的薄膜測厚儀是遠(yuǎn)遠(yuǎn)于使用其它方法的其它產(chǎn)品。 【】厚度測量領(lǐng)域內(nèi)的分解能力屬于世界初微小領(lǐng)域測量 【】可以專用于測量微小領(lǐng)域的厚度分布 【】可以測量Wafer上的多層薄膜厚度與光學(xué)常數(shù)-折射率與吸收率 【】可以實時的測量厚度變化量與具有角度顯示，打印，保存功能 【】可以快速的在1秒之內(nèi)接受data并且修復(fù)data
