品牌 | K-MAC | 型號(hào) | ST2000 |
外形尺寸 | 190 x 265 x 316 mm(mm) | 重量 | 12Kg(Kg) |
產(chǎn)品用途 | 測(cè)量 |
Stage Size | 150 x 120mm(70 x 50mm Travel Distance) |
Measurement Range | 200?~ 35?(Depends on Film Type) |
Spot size | 20? Typically |
Measurement Speed | 1~2 sec./site |
Application Areas | Polymers : PVA, PET, PP, PR ... Dielectrics : Semiconductors : Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS... |
Option | Reference Sample(K-MAC or KRISS or NIST) |
Head | Trinocular Head |
Nosepiecs | Quadruple Revolving Mechanism with Inward Tilt |
Type of Illumination | 12V 35W Halogen Lamp Built-in Control Device & Transformer |
本產(chǎn)品適用于半導(dǎo)體領(lǐng)域內(nèi),測(cè)量薄膜厚度的光學(xué)分析儀器。我公司的ST產(chǎn)品的測(cè)量時(shí)間非常短暫,測(cè)量方法是屬于非接觸非破壞方法,使用顯微鏡可以測(cè)量很小區(qū)域內(nèi)的再現(xiàn)性和準(zhǔn)確性,現(xiàn)在,我們公司的薄膜測(cè)厚儀是遠(yuǎn)遠(yuǎn)于使用其它方法的其它產(chǎn)品。 【】厚度測(cè)量領(lǐng)域內(nèi)的分解能力屬于世界初微小領(lǐng)域測(cè)量 【】可以專(zhuān)用于測(cè)量微小領(lǐng)域的厚度分布 【】可以測(cè)量Wafer上的多層薄膜厚度與光學(xué)常數(shù)-折射率與吸收率 【】可以實(shí)時(shí)的測(cè)量厚度變化量與具有角度顯示,打印,保存功能 【】可以快速的在1秒之內(nèi)接受data并且修復(fù)data