- 品牌/商標：View
- 企業(yè)類型：貿易商
- 新舊程度：全新
View Micro-Metrology非接觸式光學三坐標測量儀的詳細介紹
View Micro-Metrology非接觸式光學三坐標測量儀(VMM)是一家的AOI光學檢測設備供應商，生產適合過程控制測量應用的全自動高影像三坐標測量系統(tǒng)和顯微量測系統(tǒng)。
View Micro-Metrology非接觸式光學三坐標測量儀以其獨特的固定雙倍放大倍率光學系統(tǒng)、卓越的光源性能、強大靈活的軟件系統(tǒng)、先進的機動運行控制以及非線性偏差修正技術而專長。其高速度、高的測量性能持續(xù)受到全世界客戶的追崇，有效控制了客戶的成本支出。
加工制造和裝配持續(xù)朝著微型化、自動化發(fā)展，同樣，檢測技術也日趨要求高、高速度的檢測測量方案。很多測量技術都能提供高測量，但僅有部分能把準確的測量和高產能商化于一體。然而View Micro-Metrology非接觸式光學三坐標測量儀卻將現(xiàn)代檢測需要的這一苛刻檢測性能要求集于一體，滿足全自動高速的過程測量應用。View Micro-Metrology非接觸式光學三坐標測量儀以結果證明其言行，View以其可追述至美國國家標準技術研究院NIST的可靠的性能和服務于世界60多個國家，以所測得數(shù)據(jù)回饋客戶，將客戶風險降至，有效控制成本！測量儀器，View Micro-Metrology非接觸式光學三坐標測量儀是您正確的選擇伙伴，您會體會到與眾不同的優(yōu)勢！
View Micro-Metrology非接觸式光學三坐標測量儀適用范圍：
- 半導體封裝、
- SMT組裝、裝配
- 絲網印刷、PCB
- BGA&QFP、Bump on die、solder paste
- 引線架Leadframes、探針卡
- LED封測
- 光纖、
- photomask、MEMS
- 晶圓級檢測、測量等應用。
- 1976年推出世界臺高速影像測量光學三坐標；
- 花崗巖鑄鐵基底平臺，穩(wěn)定可靠，運動平穩(wěn)；
- 全鼠標、手柄操作，簡單易用；
- 亞微米分辨率
- 全自動尋邊功能
- 固定雙倍率光學鏡頭，1X/4X高低倍率瞬時切換，無需變焦，重復性高
- 1:10~1：50亞像素分辨率，保證高重復性和準確的弱邊尋邊
- 程控彩色環(huán)形表面光源PRL，LED輪廓光源，同軸光源，角度和方向可調控，增強表面檢測性能
- 的Rochi自動聚焦技術，增強Z軸聚焦性能
- 獨特的Z軸測高功能，可加裝激光測頭
- VMS全自動可編程影像測量、數(shù)據(jù)分析軟件，多種輸出方式（CAD、notepad、excel）
Pinnacle 250
◆ 測量系統(tǒng)尺寸(W x D x H)：795 x 953 x 1750 mm
◆ 線性馬達控制
◆ 測量：E2 (XY) = (2.0 + 5L/1000)um，
E1 (Z-axis) = (3.0 + 5L/1000)um
L：測量長度mm
◆ 1/10~1/50的亞像素, 2.5X標配鏡頭(低倍2.5X，高倍10X)
◆ 光源：LED背光、LED同軸表面光
◆ 承載力：25kg
適用于：微小、緊公差工件，高密度、復雜特征尺寸部件，如精密沖壓件以及芯片級封裝等。
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Benchmark 250 緊湊型臺式系統(tǒng)
◆ 測量范圍(XYZ)：300 x 150 x 150 mm◆ 分辨率：0.5um
◆ 測量系統(tǒng)尺寸(W x D x H)：720 x 775 x 873 mm
◆ 伺服馬達控制
◆ 測量：E2 (XY) = (2.0 + 5L/1000)um，
E1 (Z-axis) = (3.0 + 5L/1000)um
L：測量長度mm
◆ 1/10~1/50的亞像素, 1.0X標配鏡頭(低倍1.0X，高倍4X)
◆ 光源：LED背光、LED同軸表面光
◆ 承載力：25kg
適用于：注塑部件、機械部件、電子元件組裝、半導體封裝、光纖器件、磁盤介質基板、記錄芯片或 150mm 以內的晶圓產品。
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Benchmark 450 中行程測量系統(tǒng)
◆ 測量范圍(XYZ)：450 x 450 x 200 mm
◆ 分辨率： 0.5um
◆ 測量系統(tǒng)尺寸(W x D x H)：1210 x 1140 x 1700 mm
◆ 伺服馬達控制
◆ 測量：E2 (XY) = (2.5 + 5L/1000)um，
E1 (Z-axis) = (3.5 + 5L/1000)um
L：測量長度mm
◆ 1/10~1/50的亞像素, 1.0X標配鏡頭(低倍1.0X，高倍4X)
◆ 光源：LED背光、LED同軸表面光
◆ 承載力：65kg
適用：注塑部件、絲網印刷模具、印刷電路板、焊錫膏環(huán)氧膠點、精密機械部件
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Summit 450/600/800
◆ 測量范圍(XYZ)：450 x 450 x 150 mm
◆ 分辨率： 0.1um
◆ 測量系統(tǒng)尺寸(W x D x H)：1016 x 1650 x 1930 mm
◆ 伺服馬達控制、線性馬達驅動
◆ 測量：E2 (XY) = (2.0 + 6L/1000)um，- E1 (Z-axis) = (1.5 + 5L/1000)um
L：測量長度mm
◆ 1/10~1/50的亞像素, 2.5X標配鏡頭(低倍2.5X，高倍10X)
◆ 光源：LED背光、LED同軸表面光
◆ 承載力：50kg
Summit 適用于: 較高需求的大型部件，如錫膏絲網印刷、藝術品、PCB、柔性電路以及微蝕刻部件。
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View Micro-Metrology可選配件：
◆ 物鏡：0.8x, 1.0x, 5x, 10x
◆ 光源： 多顏色（紅、綠、藍）可編程環(huán)形光PRL
◆ Rochi Grid自動聚焦
◆ 透鏡激光光源TTL
◆ Digital megapixel camera
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View Micro-Metrology(VMM)顯微測量系統(tǒng)MicroLine 和Precis200 主要用于測量半導體、MEMS 晶圓、光刻掩模板等尺寸和涂覆物(多層套刻、圓、對接誤差等)量測。
MicroLine-300是一款桌上型手動操作全自動CD測量系統(tǒng)。
主要技術參數(shù)：
◆ 測量范圍(XYZ)：200×200×25mm；
◆ 視場內測量：0.010um(100X 鏡頭)；
◆ 視場內測量范圍：0.5um~400um；
◆ 視場內 測量重復性(100x 物鏡)：晶圓上<0.010um(1δ)；
掩模板上0.005um(1δ)；
◆ 標配鏡頭10x，可選鏡頭：5X, 20X, 50X, 100X
◆ 可視化自動聚焦
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全新的Precis? 200是基于Micro-Metric的Innova晶圓量測系統(tǒng)開發(fā)而來，采用了VMM 公司先進的設計和技術。
主要技術參數(shù)：
◆ 測量范圍(XYZ)：200×200×5mm；
◆ 測量：E2 (XY plane) = 0.25 + 2L/1000
◆ 直流伺服馬達驅動
◆ 分辨率0.01um
◆ 視場測量和重復性：0.01 μm (100x)；
- Precis 主要用于以下應用：
- 亞微米測量：
◆ 微器件和電子元器件封裝、引線框
◆ 微型球狀引腳柵格陣列封裝
◆ 硬盤驅動臂、探針卡、刀片
- CD 和套刻測量：
◆ 線寬、涂覆層
◆ MEMS 器件、接觸窗、噴墨打印頭
◆ 硬盤驅動頭、磁頭等
For more details, pls refer to : www.viewmm.com
