無(wú)掩模光刻機(jī)

無(wú)掩膜光刻機(jī) 型號(hào) DS-2000/1.0型
1．技術(shù)特征 采用DMD作為數(shù)字掩模，像素1024×768
采用1倍縮小投影光刻物鏡成像，曝光面積約14mm×10mm
采用技術(shù)——積木錯(cuò)位蠅眼透鏡實(shí)現(xiàn)均明。
采用進(jìn)口精密光柵、進(jìn)口電機(jī)、進(jìn)口導(dǎo)軌、進(jìn)口絲杠實(shí)現(xiàn)工件定位和曝光拼接，
可適應(yīng)100mm×100mm基片。
2．技術(shù)參數(shù)
光源：350W球形汞燈（曝光譜線： i線）；
照明均勻性：±2%； 物鏡倍率：1倍
曝光場(chǎng)面積：14mm×10mm 光刻分辨力：14μm
工件臺(tái)運(yùn)動(dòng)范圍：X：100mm、 Y：100mm；
工件臺(tái)運(yùn)動(dòng)定位：±1.5μm；
調(diào)焦臺(tái)運(yùn)動(dòng)靈敏度：1μm；
調(diào)焦臺(tái)運(yùn)動(dòng)行程：6mm 轉(zhuǎn)動(dòng)臺(tái)行程：±6°以上
基片尺寸外徑: Ф15mm—Ф100mm，
厚度：0.1mm--5mm
3．外形尺寸：840mm（長(zhǎng)）×450mm(寬) ×830mm（高）

無(wú)掩模光刻機(jī)系統(tǒng)關(guān)鍵技術(shù)：曝光光學(xué)系統(tǒng)、光勻化技術(shù)、圖形發(fā)生器、投影物鏡、對(duì)焦系統(tǒng)、對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、精密工件臺(tái)、步進(jìn)拼接、控制軟件等

應(yīng)用領(lǐng)域 
集成電路芯片、電子封裝、微電子機(jī)械系統(tǒng)、微光學(xué)元件、紅外探測(cè)器、生物電泳芯片、激光二極管光刻、光柵光刻，波導(dǎo)陣列光刻、液晶顯示、聲表器件、平板顯示器、大尺寸光柵、

碼盤(pán)刻劃等