管線式珍珠粉超細(xì)研磨機(jī)，硬脂酸鈣研磨機(jī)，珍珠粉破碎機(jī)，珍珠粉研磨設(shè)備，珍珠粉膠體磨，珍珠粉濕法研磨機(jī)，超細(xì)研磨機(jī)，高剪切研磨機(jī)

珍珠粉實(shí)驗(yàn)

1、原料：珍珠，水

2、用途：化妝品行業(yè)、醫(yī)藥行業(yè)、食品行業(yè)、保健品行業(yè)

3、粉體粒徑：

珍珠粉可以根據(jù)其顆粒直徑分為三類：

1）普通珍珠粉：粒度200目以上，可以達(dá)到國家基本要求

2）超細(xì)珍珠粉：細(xì)度1000目以上（或粒徑15微米以下）

3）納米珍珠粉：細(xì)度15萬目以上（或100納米以下）。珍珠粉越細(xì)，其加工工藝難度越高，價(jià)格越高，但是粉質(zhì)更細(xì)膩，吸收率更高，功效更好。

目前市場(chǎng)上正常銷售的是10μm（1250目左右），經(jīng)IKN管線式高剪切研磨分散機(jī)處理后的珍珠粉可以達(dá)到2-3μm（2000目左右）

珍珠粉的一般工藝：

1、預(yù)粉碎：先將完整珍珠洗凈初步破碎成顆粒狀；

2、研磨：使用IKN研磨分散機(jī)研磨，將已經(jīng)初步粉碎的顆粒狀珍珠按一定配比與水混合進(jìn)入IKN管線式高剪切研磨分散機(jī)，珍珠粉在IKN研磨分散機(jī)中經(jīng)過數(shù)次循環(huán)后得出珍珠粉溶液，使用顯微鏡對(duì)物料粒徑進(jìn)行初步檢測(cè)，珍珠粉粒徑達(dá)到2-3μm（2000目左右）即為合格；

3、噴霧干燥：使用噴霧干燥塔對(duì)已經(jīng)處理到2-3微米的珍珠粉溶液進(jìn)行噴霧干燥，得出珍珠粉；

4、包裝，貼標(biāo)簽；

珍珠粉研磨設(shè)備是利用是濕磨法將預(yù)粉碎后的珍珠與水按照一定的配比進(jìn)行混合，然后進(jìn)入IKN珍珠粉研磨設(shè)備進(jìn)行循環(huán)極細(xì)研磨。IKN經(jīng)過多次試驗(yàn)驗(yàn)證，IKN研磨機(jī)、膠體磨、研磨分散機(jī)都可以達(dá)到極細(xì)研磨效果，其中研磨分散機(jī)研磨效果，可以達(dá)到2000目。

IKN珍珠粉超細(xì)研磨機(jī)的特點(diǎn)

一、針對(duì)珍珠粉處理的特殊性，使用IKN其它設(shè)備難以滿足珍珠粉生產(chǎn)廠家的高標(biāo)準(zhǔn)要求，IKN研發(fā)工程師特對(duì)已開發(fā)的研磨分散機(jī)進(jìn)行技術(shù)完善，將研磨分散機(jī)標(biāo)準(zhǔn)轉(zhuǎn)速提高了一半，的轉(zhuǎn)速直接提高了設(shè)備的線速度，大大縮減了物料在研磨分散機(jī)里循環(huán)的次數(shù)，的提高了珍珠粉的生產(chǎn)效率。

二、超細(xì)研磨分散機(jī)是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。磨頭下面的膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

三、CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMSD2000系列研磨分散機(jī)參數(shù)選型表 

研磨分散機(jī) 流量 輸出 線速度 功率 入口/出口連接

類型 l/h rpm m/s kW

CMSD2000/4 300 14,000 41 4 DN25/DN15

CMSD2000/5 1000 10,500 41 11 DN40/DN32

CMSD2000/10 4000 7,200 41 30 DN80/DN65

CMSD2000/20 10000 4,900 41 45 DN80/DN65

CMSD2000/30 20000 2,850 41 90 DN150/DN125

CMSD2000/50 60000 1,100 41 160 DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

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