氣固相碳化制備小蘇打高速研磨分散機 

碳酸氫鈉（sodium bicarbonate），分子式為NaHCO?，是一種無機化合物，呈白色結(jié)晶性粉末，無臭，味咸，易溶于水。在潮濕空氣或熱空氣中即緩慢分解，產(chǎn)生二氧化碳，加熱至270℃完全分解。遇酸則強烈分解，產(chǎn)生二氧化碳。

碳酸氫鈉在分析化學、無機合成、工業(yè)生產(chǎn)、農(nóng)牧業(yè)生產(chǎn)等方面有較為廣泛的應用。

研究歷史

1791年，法國化學家尼古拉斯·勒布朗（Nicolas Leblanc）制備出碳酸鈉，為碳酸氫鈉的合成奠定了基礎。1801年，德國藥理學家瓦倫汀·羅斯（Valentin Rose the Younger）報道了碳酸氫鈉的發(fā)現(xiàn)。1846年，美國面包師約翰·德懷特（John Dwight）和奧斯汀·邱奇（Austin Church）在美國建立了**家用碳酸鈉和二氧化碳生產(chǎn)碳酸氫鈉的工廠。1861年，比利時化學家索爾維（E.Solvay）開發(fā)出了一種生產(chǎn)碳酸鈉和碳酸氫鈉的工業(yè)方法。1942年，中國化工專家侯德榜在索爾維工藝的基礎上發(fā)明了聯(lián)合制堿法。除了從天然開采的礦物中提取外，世界上大部分工業(yè)生產(chǎn)的碳酸氫鈉都受到索爾維方法的影響

氣固相碳化法將碳酸鈉置于反應床上，并用水拌好，由下部吸入二氧化碳，碳化后經(jīng)干燥、粉碎，即得成品。

上海IKN技術，獨特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了**分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。

CMD2000系列是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。

CMD2000研磨機為立式分體結(jié)構(gòu)，**的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第*級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

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