- 企業(yè)類型：制造商
- 新舊程度：全新
- 原產(chǎn)地：成都
IBE350干法刻蝕設(shè)備，該刻蝕設(shè)備在半導(dǎo)體行業(yè)中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，可以實現(xiàn)納米級的精密刻蝕。對復(fù)雜微結(jié)構(gòu)的器件加工，微電子器件的制造提供重要支持，在芯片領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用。
設(shè)備尺寸：1200*1500*1800mm。
極限真空：優(yōu)于≤8.0×10-5Pa。
樣品尺寸：6英寸向下兼容。
刻蝕類型：物理刻蝕。
刻蝕氣體：Ar、O2。
刻蝕氣體流量：0~100sccm。
離子源類型：考夫曼直流離子源，角度可調(diào)。
成都超邁光電科技有限公司，為國家高新技術(shù)企業(yè)、國家標準擬定單位、創(chuàng)新型中小企業(yè)、省專精特新企業(yè)、新經(jīng)濟雙百企業(yè)，已通過GB/T與GJB雙體系認證。
公司致力于真空鍍膜、等離子刻蝕、人工晶體材料和特殊裝備的技術(shù)提升，具有全系列涂層服務(wù)裝備和檢測手段，已申請國家專利60余項，授權(quán)專利與軟件著作權(quán)50余項，擬定國家標準2項，行業(yè)標準1項，為中國物理學(xué)會固體缺陷專家委員單位，全國電熱裝備標準化委員會單位，已形成工業(yè)級、科研級和特殊級三大產(chǎn)品系列，公司在南充高新區(qū)(順慶高新區(qū))建有超邁智能產(chǎn)業(yè)園，一期已完成3.5萬平方米廠房和配套辦公生活設(shè)施建設(shè)，具備強大的研發(fā)和制造能力。
