- 電壓:380
- 功率:4kw
- 適用物料:粉體漿料
- 設(shè)備尺寸:450*350*750 mm
- 轉(zhuǎn)速:0-14000
磺胺二甲嘧啶混懸液高剪切均質(zhì)機(jī),混懸液高剪切均質(zhì)機(jī),口服混懸液高速均質(zhì)機(jī),注射混懸液高速均質(zhì)機(jī),磺胺二甲嘧啶混懸液高速均質(zhì)機(jī),磺胺二甲嘧啶高速均質(zhì)機(jī),磺胺二甲嘧啶高剪切均質(zhì)機(jī),磺胺二甲嘧啶高剪切均質(zhì)機(jī)
磺胺二甲嘧啶混懸液,用于腦膜炎球菌、肺炎球菌、溶血性鏈球菌及某些革蘭氏陰性桿菌引起的感染。
(1)先將乙二胺四乙酸二鈉、枸櫞酸鈉和苯甲酸鈉依次溶入20ml注射用水中,用0.45μm微孔濾膜進(jìn)行過濾得溶液A。
(2)取10ml注射用水,溶入羧甲基纖維素鈉加熱使溶解,然后加入無水亞硫酸鈉和吐溫-80,攪拌完全溶解后,用0.45μm的微孔濾膜進(jìn)行過濾得溶液B。
(3)將溶液B倒入溶液A中,攪拌混勻后,加入磺胺間甲嘧啶鈉和替米考星,用注射用水定容至100% (V/V),得混合液C。
(4)將混合液C通過0.22μm的微孔濾膜進(jìn)行過濾除菌,無菌灌裝,得到替米考星、磺胺間甲嘧啶鈉注射液。
提升混懸液穩(wěn)定性的主要方式如下:
①盡可能減小微粒半徑,從而降低沉降速度;
②增大分散介質(zhì)的粘度,以此縮小固體微粒與分散介質(zhì)間的密度差。這就需要向混懸液中添加高分子助懸液,在提高介質(zhì)粘度的同時,也減小了微粒與分散介質(zhì)之間的密度差,并且微粒會吸附助懸液分子從而增強(qiáng)親水性。
混懸液中的微粒大小并非一致,較大的微粒往往會快速沉降,而細(xì)小微粒的沉降速度極慢,細(xì)小微粒憑借布朗運(yùn)動能夠在介質(zhì)中長期懸浮,使混懸液長時間維持混懸狀態(tài)。在制備混懸液時,應(yīng)讓混懸微粒具備適宜的分散度,粒度均勻,以降低微粒的沉降速度,使混懸液處于穩(wěn)定狀態(tài)。
傳統(tǒng)的混懸液生產(chǎn)大多采用普通膠體磨,其轉(zhuǎn)速僅為 3000rpm,生產(chǎn)出的懸浮液顆粒較粗,靜置一段時間后容易產(chǎn)生絮凝,影響藥效和使用。為此,有醫(yī)藥廠家在對國內(nèi)設(shè)備進(jìn)行考察后,舍棄了具有極大價格優(yōu)勢的國內(nèi)設(shè)備,轉(zhuǎn)而咨詢低能耗、高轉(zhuǎn)速、定轉(zhuǎn)子極為精密、研磨精細(xì)的上海 IKN 高速膠體磨。設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá) 14000RPM,可通過變頻調(diào)速經(jīng)皮帶加速來實(shí)現(xiàn)。(其轉(zhuǎn)速是普通分散設(shè)備的 3 至 4 倍,研磨力度也是普通膠體磨的 3 至 4 倍,如此一來,研磨出的細(xì)度更小,效果更佳)
高剪切濕法研磨機(jī)廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代工業(yè)中。能夠根據(jù)工藝需求在線即時調(diào)節(jié)物料的粉碎和研磨細(xì)度,從而控制物料粒徑分布在特定范圍內(nèi),避免因粒徑過粗或過細(xì)影響產(chǎn)品質(zhì)量。
在精細(xì)化工領(lǐng)域,顏料、染料、油漆、油墨、塑料助劑等產(chǎn)品的生產(chǎn)需要濕法研磨;生物醫(yī)藥行業(yè)中,注射劑、抗生素、保健品以及細(xì)胞組織破碎等工藝也依賴濕法研磨;農(nóng)藥行業(yè)中,殺蟲劑、種衣劑、除草劑的制備同樣需要濕法粉碎;此外,食品行業(yè)中的果醬、巧克力漿、食品添加劑等加工也離不開濕法研磨技術(shù)。
目前,常用的濕法超細(xì)粉碎設(shè)備包括砂磨機(jī)和膠體磨。然而,砂磨機(jī)因使用玻璃珠或氧化鋯珠等研磨介質(zhì),容易對物料造成污染,不適用于醫(yī)藥、食品和化妝品等行業(yè)。而傳統(tǒng)膠體磨雖然無需研磨介質(zhì),但其開放式操作容易導(dǎo)致物料污染,且產(chǎn)能較低、效率不高,難以滿足大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)需求。此外,這兩種設(shè)備在處理高粘度或流動性較差的物料時存在明顯局限,且對粉碎粒徑的控制能力較弱,因此亟需一種更高效、適應(yīng)性更強(qiáng)的超細(xì)濕法粉碎設(shè)備。
IKN在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上進(jìn)行了多項(xiàng)改進(jìn),將轉(zhuǎn)速從傳統(tǒng)的3000轉(zhuǎn)提升至14000轉(zhuǎn),甚至可達(dá)21000轉(zhuǎn)的超高轉(zhuǎn)速,顯著提升了細(xì)碎效果和作用效率。在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上,除了保留原有的細(xì)碎研磨功能外,還新增了高速離心分散功能,使物料在細(xì)碎后能夠更加穩(wěn)定地分散,避免分層、沉淀或浮油現(xiàn)象的發(fā)生。
IKN改進(jìn)型膠體磨通過定轉(zhuǎn)子間的可調(diào)間隙,使物料在通過研磨區(qū)域時受到強(qiáng)大的機(jī)械力、液力剪切和高頻振動等多重物理作用,實(shí)現(xiàn)高效剪切剝離、分散和粉碎。隨后,物料進(jìn)入第二級高速剪切分散盤,經(jīng)過進(jìn)一步剪切細(xì)化、勻化處理,最終達(dá)到超細(xì)粉碎和均勻分散的效果。
IKN研磨分散機(jī)的行業(yè)應(yīng)用與優(yōu)勢
IKN研磨分散機(jī)在制藥、食品和精細(xì)化工行業(yè)中表現(xiàn)出色,能夠?qū)崿F(xiàn)均勻的粒度分布和解聚分散,幫助企業(yè)在減少資本支出的同時提升產(chǎn)品質(zhì)量。其設(shè)計(jì)融合了多項(xiàng)創(chuàng)新技術(shù),具有更高的多功能性和更便捷的清潔維護(hù)特性,滿足了行業(yè)對高效、穩(wěn)定和易操作設(shè)備的需求。
IKN研磨分散機(jī)采用膠體磨與分散機(jī)的一體化設(shè)計(jì),相較于傳統(tǒng)膠體磨與分散機(jī)的串聯(lián)方式,具有顯著優(yōu)勢。在膠體磨與分散機(jī)串聯(lián)的工藝中,由于存在時間差,物料經(jīng)過膠體磨磨細(xì)后容易發(fā)生團(tuán)聚現(xiàn)象,隨后再通過分散機(jī)進(jìn)行分散時,效果往往不理想。
而IKN的CMSD超細(xì)研磨分散機(jī)則優(yōu)化了這一過程。物料在磨細(xì)后能夠立即進(jìn)入分散工作組,實(shí)現(xiàn)即時分散。由于在物料尚未發(fā)生團(tuán)聚之前便完成了分散操作,這種瞬時作用大幅提升了分散效果,顯著優(yōu)于傳統(tǒng)串聯(lián)方式。
實(shí)驗(yàn)室最小型:
CMSD2000系列研磨分散機(jī)參數(shù)選型表
研磨分散機(jī) 流量 輸出 線速度 功率 入口/出口連接
類型 l/h rpm m/s kW
CMSD2000/4 300 14,000 41 4 DN25/DN15
CMSD2000/5 1000 10,500 41 11 DN40/DN32
CMSD2000/10 4000 7,200 41 30 DN80/DN65
CMSD2000/20 10000 4,900 41 45 DN80/DN65
CMSD2000/30 20000 2,850 41 90 DN150/DN125
CMSD2000/50 60000 1,100 41 160 DN200/DN150
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
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