蠟系脫模劑實驗室在線研磨分散機 

蠟系脫模劑：

天然蠟又分為植物性蠟(卡諾巴蠟)和礦物性蠟(FT蠟)；合成蠟(聚乙烯蠟)。

在日本專利77/68266中曾提出了石蠟與其它蠟混合作聚氨酯泡沫脫模劑。例如：石蠟40份(m.p. 68 C )、微晶蠟(m.p.72-75C) 40份、微晶蠟(m.p. 83-85C) 20份，在10C下熔化，噴在一個預熱到80C的鐵模或鋁模上，冷卻到40C，泡沫很容易出模。

在前蘇聯(lián)曾提出了以下兩個配方：

1）精制地蠟0~30/ 、泥炭蠟60/ ~100/、20/表面活性劑水溶液30 / ~ 70 / ( 表面活性劑為非離子型，如OS-20)、硬脂酸作穩(wěn)定劑和水制成一種乳液，可用作制泡沫聚氨酉旨的脫模劑。

2） 微晶蠟2.7份、硅油2份、增稠白油7.88份、殺菌劑0.1份、乙氧基化脂肪醇1.5份、乙氧基化壬基酚0.4份、脂肪醇聚乙二醇醚0.34份、水84.78份。上述乳液可用于汽車聚氨酯擋水板的脫模。

蠟系脫模劑的粘合、涂飾的后加工性良好，價格也較便宜，作為聚氨酚泡沫用脫模劑易得到大量使用。但這種脫模劑對模具的污染較嚴重，需要頻繁地清洗模具。

上海IKN技術，獨特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了**分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質機”、“研磨乳化機”。

CMD2000系列是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。

CMD2000研磨機為立式分體結構，**的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第*級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000研磨機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

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