醫(yī)藥薄膜包衣在線高剪切研磨分散機 

藥用薄膜包衣技術(shù)*早應(yīng)用于西藥的固體制劑，功能比較單一，主要是改善外觀，突出產(chǎn)品個性，提高企業(yè)產(chǎn)品的檔次。

包衣劑常規(guī)生產(chǎn)方式一般為球磨法或粉碎法，處理不溶性著色劑。球磨法時間長，分散效果差，粉碎法造成產(chǎn)品顏色不均勻、操作中沉降、堵槍等現(xiàn)象，而且會造成高分子材料分子鏈斷裂或變性，影響產(chǎn)品的成膜性能。

采用高剪切方法對不溶性著色劑細化分散，將其分散到*細粒子狀態(tài)。然后，將表面活性劑溶液高壓霧化形成細小霧滴，均勻分布在著色劑表面，形成均勻的包覆層，這種方法可以快速、充分的潤濕著色劑顆粒，降低色淀顆粒的表面能，避免顆粒團聚，使著色劑分散均勻、穩(wěn)定性好，產(chǎn)品的著色強度提高，遮蓋力也明顯改善。在剪切過程中包覆后的著色劑與成膜劑混合均勻，產(chǎn)品顏色一致，同時實現(xiàn)對成膜劑的增塑，提高產(chǎn)品的柔韌性。在這個生產(chǎn)工藝中，著色劑形成細化的粉體，提高了顏色的鮮艷度，粉體細膩，使用性能穩(wěn)定；在成膜劑的混合及增塑采用短時間、低速剪切即可獲得混合均勻的物料，避免了高速和長時間剪切對高分子材料分子結(jié)構(gòu)的破壞。

上海IKN技術(shù)，獨特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了**分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。

CMD2000系列是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。

CMD2000研磨機為立式分體結(jié)構(gòu)，**的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第*級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000研磨機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

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