- 企業(yè)類型:制造商
- 新舊程度:全新
- 原產(chǎn)地:中國
- 電壓:380
- 功率:4kw
- 物料類型:固-液
- 適用場(chǎng)所:實(shí)驗(yàn)室/工廠
- 粉碎程度:納米級(jí)
動(dòng)物組織破碎提取,高速膠體磨,動(dòng)物組織破碎提取實(shí)驗(yàn)室在線高速分散機(jī) ,胸腺高速勻漿機(jī),14000轉(zhuǎn)高速勻漿機(jī),胎盤高速研磨設(shè)備,組織細(xì)胞破壁高速膠體磨
形態(tài)功能類似的細(xì)胞和細(xì)胞間質(zhì)組成的多細(xì)胞動(dòng)物的基本結(jié)構(gòu)。分為上皮組織、結(jié)締組織、肌肉組織和神經(jīng)組織4種。它們以不同的比例互相聯(lián)系 、相互依存 ,形成動(dòng)物的各種器官和系統(tǒng),以完成各種生理活動(dòng)。動(dòng)物組織是在胚胎期有原始的內(nèi)、中、外三個(gè)胚胎層分化而來的;動(dòng)物組織可根據(jù)其起源、形態(tài)結(jié)構(gòu)和功能上的共同特性,分為上皮組織、結(jié)締組織、肌組織和神經(jīng)組織四大類。
IKN管線式高剪切研磨均質(zhì)機(jī)在動(dòng)物組織破碎中的應(yīng)用
IKN管線式高剪切研磨均質(zhì)機(jī)主要用于動(dòng)物脾臟和肝臟的破碎與均質(zhì)處理。通過超高速14000rpm的運(yùn)行速度,結(jié)合高速膠體磨磨頭與超細(xì)均質(zhì)頭的協(xié)同作用,對(duì)動(dòng)物脾臟和肝臟進(jìn)行高效破壁處理。相比傳統(tǒng)方法,破碎率從30%提升至80%以上。在制備轉(zhuǎn)移因子時(shí),該方法可使脾臟和肝臟中多肽核糖的提取率提高至70%-80%。
IKN動(dòng)物組織高速膠體磨特點(diǎn):
1、處理量大,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)
2、粒徑分布范圍窄,分散效果佳
3、省時(shí)、節(jié)約能耗
4、噪音低,運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)
5、消除批次間生產(chǎn)的品質(zhì)差異
6、無死角,物料100/通過分散剪切
7、水循環(huán)機(jī)械密封,密封效能好;
8、物料接觸面采用316L不銹鋼,拋光處理,達(dá)到GMP標(biāo)準(zhǔn);
9、具有短距離、低揚(yáng)程輸送功能
10、使用簡(jiǎn)單,維修方便。
IKN膠體磨與國內(nèi)膠體磨的性能比較:
一、轉(zhuǎn)速和剪切速率:
IKN膠體磨,可選擇德國機(jī)械密封,轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)
F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
國內(nèi)膠體磨,可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn),大約在14293-215440 S-1
通過轉(zhuǎn)速比較可知,這是粉碎研磨的重要因素,相當(dāng)于前者是后者的2-3倍
二、膠體磨頭和間距:
IKN膠體磨,可以選擇六種不同的模塊頭,實(shí)現(xiàn)多種功能,如三級(jí)乳化模塊,速模塊,CM膠體模塊,CMO膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊。
間距可調(diào),可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工
國內(nèi)膠體磨,只有一種模塊頭,粒徑細(xì)度有限,100微米以下較困難,重復(fù)性差
三、機(jī)械密封:
IKN膠體磨,雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降至*低,可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)
國內(nèi)膠體磨,單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀
四、清洗:
IKN膠體磨,立式,皮帶驅(qū)動(dòng),易于維護(hù),可有效保護(hù)馬達(dá)及齒輪箱,防止損壞,符合流體流動(dòng)原理,具有CIP/SIP在線清洗,在線殺菌功能,無需拆卸,機(jī)器設(shè)計(jì)無死角,立式結(jié)構(gòu)符合流體原理,清洗更簡(jiǎn)便
國內(nèi)膠體磨,臥式或立式(馬達(dá)一體式),軸承部分受力較大,易于損壞,維護(hù)保養(yǎng)復(fù)雜,
通常情況,需要拆卸機(jī)器進(jìn)行清洗
膠體磨內(nèi)部結(jié)構(gòu)及分析:
粉碎室設(shè)有三道磨碎區(qū),為粗磨碎區(qū),二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū),三層為超微磨碎區(qū),通過調(diào)整定、轉(zhuǎn)子的間隙,能有效地達(dá)到所需的超微粉碎效果(也可循環(huán)加工)。
設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
CMS2000采取直立式設(shè)計(jì),使物料可以全部進(jìn)入分散腔,符合工藝要求和流體力學(xué)要求,增加其工作效率,***低處出口的出料設(shè)計(jì)符合生產(chǎn)要求,垂直的壓力使得該機(jī)器工作更加穩(wěn)定,同時(shí)便于清潔。充分考慮FDA和EHEDG的標(biāo)準(zhǔn),CMS2000與物料接觸的材料根據(jù)生產(chǎn)要求使用SS316鋼或更加耐酸堿的哈氏合金,**增強(qiáng)其耐磨損和耐腐蝕的特性,杜絕設(shè)備與物料產(chǎn)生物理和化學(xué)變化而形成污染。采用了三層結(jié)構(gòu)卡匣式的機(jī)械密封設(shè)計(jì),可以快速安裝,可靠性能高,適合制藥工業(yè)。根據(jù)制藥規(guī)范要求,對(duì)分散腔和出料口進(jìn)行表面處理,**的表面處理質(zhì)量和無死角設(shè)計(jì)便于清洗,符合CIP及SIP的清潔標(biāo)準(zhǔn)。
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