醋酸丁酸纖維素實驗室在線高剪切研磨分散機 

用于制作高透明度、耐候性好的塑料片基、薄膜和各種涂料的流平劑、成膜物質(zhì)等。丁酰基含量增加則使其密度降低，溶解范圍擴大。含乙?；?2/～15/，丁?；?6/～29/。透明或不透明粒料，質(zhì)堅韌，耐候及耐寒性好。

物理化學性質(zhì)

用于制作高透明度、耐候性好的塑料片基、薄膜和各種涂料的流平劑、成膜物質(zhì)等。CAB的分子中除羥基、乙酰基外還含有丁?；湫阅芘c三種基團的含量有關(guān)。熔點和拉伸強度隨乙酰基含量增高而變大，與增塑劑的相容性和薄膜的柔性在一定范圍內(nèi)隨乙?；拷档投黾?。羥基含量增加促進其在*性溶劑中的溶解度。丁?；吭黾觿t使其密度降低，溶解范圍擴大。含乙酰基12/～15/，丁?；?6/～29/。透明或不透明粒料，質(zhì)堅韌，耐候及耐寒性好。熔融溫度140℃。密度1.15～1.22g/cm3。拉伸強度14～52MPa，彎曲模量621～2070MPa，懸臂梁缺口沖擊強度53～580J/m，洛氏硬度R31～116。熱變形溫度45～94℃。

CMD2000研磨機為立式分體結(jié)構(gòu)，**的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第*級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000研磨機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10

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