煅燒法制備氧化鎂實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)
氧化鎂(Magnesium oxide),是一種無機(jī)化合物,化學(xué)式為MgO,是鎂的氧化物,是一種離子化合物,常溫下為白色固體。氧化鎂以方鎂石形式存在于自然界中,是冶鎂的原料。氧化鎂有高度耐火絕緣性能。經(jīng)1000℃以上高溫灼燒可轉(zhuǎn)變?yōu)榫w,升至1500 - 2000°C則成死燒氧化鎂(鎂砂)或燒結(jié)氧化鎂。
性質(zhì)
氧化鎂是堿性氧化物,具有堿性氧化物的通性,屬于膠凝材料。呈白色或灰白色粉末,無臭、無味、無毒,是典型的堿土金屬氧化物,化學(xué)式MgO。熔點(diǎn)為2852℃,沸點(diǎn)為3600℃,密度為3.58g/cm3(25℃)。溶于酸和銨鹽溶液,不溶于酒精。在水中溶解度為0.00062 g/100 mL (0 °C)、0.0086 g/100 mL (30 °C)。暴露在空氣中,容易吸收水分和二氧化碳而逐漸成為堿式碳酸鎂,輕質(zhì)品較重質(zhì)品更快,與水結(jié)合在一定條件下生成氫氧化鎂,呈微堿性反應(yīng),飽和水溶液的pH為10.3。溶于酸和銨鹽難溶于水,其溶液呈堿性。不溶于乙醇。在可見和近紫外光范圍內(nèi)有強(qiáng)折射性。菱鎂礦(MgCO3)、白云石(MgCO3·CaCO3)和海水是生產(chǎn)氧化鎂的主要原料。熱分解菱鎂礦或白云石得氧化鎂。用消石灰處理海水得氫氧化鎂沉淀,灼燒氫氧化鎂得氧化鎂。也可用海水綜合利用中得到的氯化鎂鹵塊或提溴后的鹵水為原料,加氫氧化鈉或碳酸鈉等生成氫氧化鎂或堿式碳酸鎂沉淀,再灼燒得氧化鎂。中國主要采用以菱鎂礦、白云石、鹵水或鹵塊為原料
CMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10
研磨分散機(jī)的特點(diǎn):
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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