陽離子絮凝劑實驗室在線研磨分散機 

陽離子型聚丙烯酰胺（簡稱CPAM）對水溶液介質(zhì)中的各種懸浮微粒都有*強的絮凝沉降效能，特別是對那些帶有負電荷的膠體溶液微粒更顯示出其優(yōu)越性。

用途介紹

陽離子絮凝劑外觀為白色粉末顆粒，分子量從700萬到1300萬，離子度為10/到80/；水溶解性好，能以任意比例溶解于水且不溶于有機溶劑。陽離子絮凝劑通過其所含的正電荷基團對污泥中的負電荷有機膠體電性中和作用及高分子優(yōu)異的架橋凝聚功能，促使膠體顆粒聚集成大塊絮狀物，從其懸浮液中分離出來；效果明顯，投加量少。主要應用于工業(yè)上的固液分離過程，包括沉降、澄清、濃縮及污泥脫水等工藝，應用的主要行業(yè)有：城市污水處理、化工廢水處理、印染工業(yè)、造紙工業(yè)、食品加工業(yè)、石化工業(yè)、冶金工業(yè)、洗煤工業(yè)、選礦工業(yè)、和制糖工業(yè)及各種工業(yè)的廢水處理。

CMD2000系列是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。

CMD2000研磨機為立式分體結(jié)構，**的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第*級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000研磨機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

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