IKN氫氧化鉀實(shí)驗(yàn)室在線研磨分散機(jī)
氫氧化鉀,是一種無機(jī)化合物,化學(xué)式為KOH,是常見的無機(jī)堿,具有強(qiáng)堿性,0.1mol/L溶液的pH為13.5,溶于水、乙醇,微溶于乙醚,*易吸收空氣中水分而潮解,吸收二氧化碳而成碳酸鉀,主要用作生產(chǎn)鉀鹽的原料,也可用于電鍍、印染等。
外觀:白色結(jié)晶性粉末
溶解性:溶于水、乙醇,微溶于乙醚
應(yīng)用領(lǐng)域
1、用于電鍍、雕刻、石印術(shù)等。
2、用作鉀鹽生產(chǎn)的原料,如高錳酸鉀、碳酸鉀等。
3、在醫(yī)藥工業(yè)中,用于生產(chǎn)鉀硼氫、安體舒通、沙肝醇、丙酸睪丸素、黃體酮、香蘭素等。
4、在輕工業(yè)中用于生產(chǎn)鉀肥皂、堿性蓄電池、化妝品(如冷霜、雪花膏和洗發(fā)膏)。
5、在染料工業(yè)中,用于生產(chǎn)還原染料,如還原藍(lán)RSN等。
6、用作分析試劑、皂化試劑、二氧化碳和水分的吸收劑。
7、在紡織工業(yè)中,用于印染、漂白和絲光,并大量用作制造人造纖維、聚酯纖維的主要原料,也用于用于制造三聚氰胺染料。
8、還用于冶金加熱劑和皮革脫脂等方面。
CMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力,對(duì)高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10
研磨分散機(jī)的特點(diǎn):
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
IKN研磨分散機(jī)設(shè)備參數(shù):
設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
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