干法制備硅酸鈉實驗室研磨分散機(jī)
理化性能
硅酸鈉的模數(shù)越大，固體硅酸鈉越難溶于水，n為1時常溫水即能溶解，n加大時需熱水才能溶解， n大于3時需4個大氣壓以上的蒸汽才能溶解。硅酸鈉模數(shù)越大，Si含量越多，硅酸鈉粘度**，易于分解硬化，粘結(jié)力**，而且不同模數(shù)的硅酸鈉聚合程度不同，從而導(dǎo)致其水解產(chǎn)物中對生產(chǎn)應(yīng)用有著重要影響的硅酸組分也有重大差異，因此不同模數(shù)的硅酸鈉有著不同的用處。
干法：（1）碳酸鈉法：根據(jù)所需產(chǎn)品的模數(shù)要求，將純堿（Na2CO3） 和粒徑0.180～0.250 mm（60~80目）的石英砂 （SiO2）按比例混合均勻送入馬蹄焰窯爐，在 1450~1500 ℃下熔融，高溫熔融產(chǎn)物從窯爐出料口流出，通過模子上面的輥子壓制成塊或者水淬成顆粒。（2）元明粉（又稱硫酸鈉、無水芒硝）法：原料包括硫酸鈉（無水芒硝）、碳粉、石英砂，生產(chǎn)過程和碳酸鈉法相同，不同的是爐內(nèi)采用負(fù)壓操作，在窯后抽風(fēng)。（3）氯化鈉法：以氯化鈉（NaCl）和石英砂為原料，將石英砂和氯化鈉混合均勻并熔融，通入蒸汽，反應(yīng)得到硅酸鈉和鹽酸。此法反應(yīng)速度較慢，一般工廠均不采用。
研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：
1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
IKN研磨分散機(jī)設(shè)備參數(shù)：
設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10
干法制備硅酸鈉實驗室研磨分散機(jī)，硅酸鈉實驗室研磨分散機(jī)，實驗室研磨分散機(jī)
