玻璃拋光粉高速研磨分散機(jī)，設(shè)備廠家

玻璃拋光粉配比濃度低，使用量少， 在低濃度下能達(dá)到**的拋光效果（只是同比產(chǎn)品的2/10-5/10左右）; 拋光速度快，無(wú)劃傷， 無(wú)光道 ；本產(chǎn)品氧化鈰含量高， 粒度細(xì)， 分布合理， 比表面積大， 使用壽命長(zhǎng)· 適用于各種不同材質(zhì)的拋光；拋光過(guò)程中， 附著力強(qiáng)， 易清洗， 懸浮性好（可添加3-5/LBD-1分散劑提高懸浮率）, 不易沉降·；PH值呈中性， 不污染環(huán)境， 無(wú)異味， 不怕潮， 可長(zhǎng)期存放不變質(zhì)。

詳細(xì)介紹

成份構(gòu)成及用途

用 途：適合各種工藝玻璃、不銹鋼制品拋光。

性 狀：粉體產(chǎn)品。

工藝條件：拋光機(jī)拋光

腐 蝕 性：此產(chǎn)品呈中性，對(duì)產(chǎn)品無(wú)腐蝕。

毒 性：無(wú)毒，不污染環(huán)境。

配 比：建議拋光粉濃度在使用機(jī)械拋時(shí)5-20g/升, 手工拋時(shí)濃度可適度加大

溫 度：常溫

上海IKN技術(shù)，獨(dú)特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來(lái)CM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了**分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。

CMD2000系列是IKN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。

CMD2000研磨機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，**的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第*級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

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