簡介：

Lumina AT2-EFEM可以在2分鐘內完成300毫米晶圓的缺陷掃描，對于基底上下表面的顆粒、凸起、凹陷、劃痕、內含物等缺陷均可一次性成像。在透明基底，如玻璃，化合物半導體如氮化鎵、砷化鎵、碳化硅等樣品上有獨特的優(yōu)勢。也可用于薄膜涂層的成像厚度變化的全表面掃描。

樣品300 x 300 mm。

廠商簡介

Lumina Instruments，總部位于美國加利福尼亞州圣何塞，公司創(chuàng)始人在透明、半透明和不透明基板全表面缺陷檢測創(chuàng)新了更快速準確的方法，因此創(chuàng)建了革命性的儀器品牌lumina.

技術創(chuàng)新

將樣片放入AT2-EFEM系統(tǒng)中，2~3分鐘即可完成掃描。

收集的數(shù)據(jù)將被分析，圖像和缺陷圖將由LuminaSoft軟件生成。
感興趣的缺陷可在掃描電子顯微鏡（SEM）、橢偏儀、顯微鏡等上進行進一步分析。

將樣品放入系統(tǒng)

直徑為30微米的綠色激光以50毫米的直線運動，反射光和散射光由四個探測器捕獲。

四通道檢測

Lumina AT2-EFEM:采取的樣品尺寸為300mm；光斑的大小在60μm也可以選擇30或10μm；靈敏度在300nm為理想；掃描時間在40/50/120s。

AT2應用：

l 內部缺陷：在融化階段，玻璃內含有污染物

l 內應力：生產過程中玻璃內部形成的張力或折射率內部變化。

l 污漬：由于薄膜殘留或清洗過程導致表面變色。

AT2

系統(tǒng)規(guī)格

掃描時間:2分鐘內掃描300mm晶圓

掃描范圍: 450x450mm

靈敏度: 薄膜缺陷<0.5

顆粒，硅上200nm PSL

顆粒，玻璃上300nm PSL

標刻: 金剛石標刻 200$

翹曲度: 范圍可達800μm

+/-5μm重復性

溫度: 18-30攝氏度

電壓: 120/230VAC

電流: 8A/4A

重量: 480Kg (1058磅)

尺寸: 1037 x 1037 x2005mm  (40.8 x 40.8x79英寸)