四路質(zhì)子混氣管式PECVD
四路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的紅心過來反應(yīng),因而這種CVD成為等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD),內(nèi)爐膛采用國內(nèi)的氧化爐陶瓷纖維可以設(shè)備加熱效率,同事也可以延長儀器的使用壽命。
主要特點:雖環(huán)境溫度在100-300℃,但反應(yīng)氣體在輝光放電等離子體中能受激分解,離解和離化,從而大大了反應(yīng)物的。因此,這些具有反應(yīng)禍心個點中性物質(zhì)很容易被吸附到較低溫度的基本表面上,發(fā)生非平衡的化學(xué)反應(yīng)沉積生成薄膜。
PECVD法是用500w交流等離子體與60*1200、多通道精密質(zhì)量流量計和高真空系統(tǒng)氣體組成。
實驗機理:輝光放等離子體重,電子密度高,電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍。
本爐子分為四大部分:開啟式管式爐,等離子射頻電源(50-500w),真空泵和閥門、質(zhì)子流量計。