快速退火爐LRTP-1200，采用紅外輻射加熱技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)大尺寸樣品（4英寸）快速升溫和降溫，同時(shí)搭配溫度控制系統(tǒng)，可的溫場(chǎng)均勻性，對(duì)材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氧化(RTO)、快速熱氮化(RTN)等研究工作起到重要作用。

快速退火爐應(yīng)用方向

快速熱處理，快速退火，快速熱氧化，快速熱氮化

離子注入/接觸退火

SiAu, SiAl, SiMo合金化

太陽能電池片鍵合

電阻燒結(jié)

低介電材料熱處理

晶體化，致密化

其他熱工藝需求

快速退火爐產(chǎn)品特點(diǎn)

可測(cè)大尺寸樣品  可測(cè)單晶片樣品的尺寸為4英寸（100mm）。

快速控溫與高真空  升溫速率可達(dá)100℃/s，真空度可10Pa。

程序設(shè)定與氣路擴(kuò)展   多可創(chuàng)建和存儲(chǔ)32個(gè)程序、8個(gè)PID設(shè)定，實(shí)現(xiàn)不同溫度段的精準(zhǔn)測(cè)試。多可擴(kuò)展至4條工藝氣路（MFC），應(yīng)用不同氣氛環(huán)境（真空、氮?dú)?、氬氣、氧氣、氫氮混合氣體等）。

全自動(dòng)智能控制  采用全自動(dòng)智能控制，包括溫度、時(shí)間、氣體流量、真空、氣氛、冷卻水等均可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制。

系數(shù)   采用爐門溫度開啟保護(hù)、溫控器開啟權(quán)限保護(hù)以及設(shè)備急停保護(hù)三重措施，保障儀器使用。

快速退火爐技術(shù)參數(shù)