實(shí)現(xiàn)更快，更簡(jiǎn)便測(cè)量
自動(dòng)光學(xué)傾斜測(cè)量頭
在8um及以上的臺(tái)階高度標(biāo)樣上測(cè)得.
自動(dòng)光學(xué)傾斜測(cè)量頭
全自動(dòng)X,Y, Z樣品臺(tái)
自動(dòng)光鏡轉(zhuǎn)塔，放大鏡，和測(cè)試光選擇
更靈活而穩(wěn)定的震
集成式充氣式震臺(tái)
高穩(wěn)定度，空間節(jié)省
更強(qiáng)大的測(cè)量和分析
簡(jiǎn)單明了，人性化的工作流程
實(shí)時(shí)自動(dòng)優(yōu)化測(cè)量
完整的數(shù)據(jù)分析軟件包
可定制的分析
測(cè)量
布魯克的傾斜測(cè)量頭為用戶提供了大的靈，實(shí)現(xiàn)快速測(cè)量和觀察。通過(guò)在在顯微鏡頭中結(jié)合頭部?jī)A斜功能，布魯克這一技術(shù)實(shí)現(xiàn)了將觀察位置保持在焦平面處，為用戶實(shí)際使用時(shí)帶來(lái)了很大便利。
準(zhǔn)確追蹤和使用的簡(jiǎn)便性對(duì)于在不同表面上快速檢測(cè)是的，這樣在批量測(cè)試時(shí)速度也大大。
這一特點(diǎn)結(jié)合樣品臺(tái)與物鏡的電動(dòng)控制使得三維光學(xué)顯微鏡Contour GT-I 成為了具有較小占地卻能同時(shí)滿足多種測(cè)試要求的測(cè)量平臺(tái)。
業(yè)界方便靈活的測(cè)量方式
除上述優(yōu)點(diǎn)外，三維光學(xué)顯微鏡ContourGT-I通過(guò)的設(shè)計(jì)直接在機(jī)臺(tái)上集成震系統(tǒng)，使其直接滿足各種環(huán)境條件，包括工廠，實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確地測(cè)量。
這一經(jīng)過(guò)嚴(yán)格測(cè)試的震系統(tǒng)為用戶提供不折不扣的優(yōu)化測(cè)試條件，從而得到重復(fù)性的定量數(shù)據(jù)。
三維光學(xué)顯微鏡ContourGT-I為用戶在科研或生產(chǎn)環(huán)境下提供各類測(cè)試要求，優(yōu)異，可計(jì)量的測(cè)試結(jié)果。
| 掃描量程 | 可達(dá)10mm |
| 垂直分辨率 | <0.01nm |
| RMS 重復(fù)性 (PSI) | 0.01nm |
| 臺(tái)階高度準(zhǔn)確性 | 0.75% |
| 臺(tái)階高度重復(fù)性 | <0.1% 1 sigma repeatability** |
| 掃描速度標(biāo)準(zhǔn)相機(jī) | 73 μm/sec |
| 樣品反射率 | 0.05%-100% |
| 坡度–光滑面 | 可達(dá)40° |
| 坡度–粗糙面 | Upto87° |
| XY樣品臺(tái) | 150mm(6in.) 自動(dòng) |
| Z調(diào)焦范圍和樣品高度 | 100mm(4in.)automated,(6in.) |
| 頭部?jī)A斜 | ±5°自動(dòng) |
| 光學(xué)測(cè)量模塊 | 雙LED（）照明,單筒物鏡或轉(zhuǎn)塔，單個(gè)放大鏡或自動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)放大鏡 |
| 物鏡 | 同焦面:2.5x,5x,10x,20x,50x,115x |
| 長(zhǎng)工作距離:1x,1.5x,2x,10x | |
| TTM:2x,5x,10x,20x | |
| 明場(chǎng):5x,10x,20x,50x | |
| 放大鏡 | 0.55x,0.75x,1x,1.5x,2x |
| 相機(jī) | 標(biāo)配:640x480 |
| 高清(可選):1280x960 | |
| 彩色(可選):640x480 | |
| 軟件系統(tǒng) | 基于Windows 7 64位操作系統(tǒng)的Vision64 分析軟件 |
| 可選軟件包 | 生產(chǎn)模式; Annular 分析; 分辨率模式自動(dòng)對(duì)焦; 光學(xué)分析包; 成像模式; 厚膜測(cè)試模式; MatLab; PSS（圖案化藍(lán)寶石襯底）測(cè)試模式 |
| 校準(zhǔn) | 可溯源的臺(tái)階高度標(biāo)準(zhǔn)樣 |
| 占地 | 450mm (W) x 533mm (D) x 745mm (H) |
| 可測(cè)樣品重量 | 十公斤 |
| 系統(tǒng)總重 | 六十公斤 |
| 保修期 | 12 個(gè)月 |
在8um及以上的臺(tái)階高度標(biāo)樣上測(cè)得.
VSI模式下對(duì)10μm臺(tái)階測(cè)試重復(fù)性指標(biāo). 平均標(biāo)準(zhǔn)偏差<10nm.
