- 儀器簡介：
- 微區(qū)X射線熒光光譜分析技術是對不均勻樣品、不規(guī)則樣品、甚至小件樣品和包裹物進行高靈敏度的、非破壞性的元素分析的方法。采用多導毛細管聚焦鏡將激發(fā)光聚焦到小的區(qū)域，以獲得的空間分辨率，進行快速分析。任何類型的樣品都可以通過簡單的樣品制備甚至不制備直接進行分析。
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技術參數： -
技術參數
樣品類型 固體、顆粒、液體、多層膜
樣品室尺寸 W×D×H：600×350×260mm
樣品臺尺寸 W×D：330×170mm
測量氣氛 大氣/真空，在100秒內準備就緒
樣品移動 移動范圍 W×D×H：270×240×120mm
移動速度 渦輪增速樣品臺移動速度可達100mm/s
激發(fā) 配多導毛細管聚焦鏡的度X射線光管
選項：可同時使用不同靶材的雙光管
X射線光管參數
靶材 Rh，可選靶材：Mo，Ag，Cu，W
電壓 50kV,800μA
光斑大小 小于30μm（對于Mo-K）
濾光片 根據用戶要求，多6塊濾光片
探測器 XFlash®硅漂移探測器
選項：可多同時使用3個探測器
探測器參數
面積 10mm2，選項：30mm2
能量分辨率 計數率250,000cps時分別125eV、135eV
儀器控制 的PC機，Windows XP或Vista操作系統(tǒng)
儀器控制功能 光管參數、濾光片、光學顯微鏡、樣品照明和樣品定位的控制
光譜評估 譜峰識別、人工和自動背景校正、峰面積計算、對于塊狀樣品和多層膜樣品基于標樣和無標樣模式的定量分析
分布分析 “飛行中”測量模式，HerMap軟件功能
結果顯示 定量結果、統(tǒng)計計算、元素分布（線掃描、面分布）
電源要求 110-240V（1P），50/60Hz
尺寸（寬×深×高） 815×680×580mm，130kg
質量和 DIN EN ISO 9001:2000, CE
輻射護系統(tǒng)；輻射劑量＜1μSv/h -
主要特點： - M4 TORNADO采用了的技術，為各種用戶提供了的分析性能和方便的操控性。
- 采用多導毛細管聚焦鏡，照射光斑小，空間分辨率。
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渦輪增速X-Y-Z樣品臺，借助放大倍數可變的攝像系統(tǒng)獲得的樣品影像，可在“飛行中”進行元素分布分析。
度的X射線光管與多導毛細管聚焦鏡相結合，在小的照射區(qū)域內獲得高的激發(fā)強度。采用濾光片和可以同時使用的配有不同靶材的雙光管，可以根據不同的分析要求，優(yōu)化激發(fā)光譜。 - 使用XFlash®探測器速地獲取樣品圖譜，另外，使用多個探測器可以進一步測量速度。
- 采用無標樣分析法定量分析塊狀樣品，分析多層膜樣品。
鉑悅儀器(上海)有限公司
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