在近代科學技術的許多領域中對各種薄膜的研究和應用日益廣泛。因此，更加和的測定給定薄膜的光學參數(shù)已變得更加迫切和重要。在實際工作中可以利用各種傳統(tǒng)的方法測定光學參數(shù)，如：布儒斯特角法測介質(zhì)膜的折射率，干涉法測膜厚，其它測膜厚的方法還有稱重法、X射線法、電容法、橢偏法等。由于橢圓偏振法具有靈敏度高、高、非破壞性測量等優(yōu)點，因而，橢圓偏振法測量已在光學、半導體、生物、等諸多領域得到廣泛應用。
產(chǎn)品特點：
儀器采用消光法自動測量薄膜厚度和折射率，具有高、靈敏度高以及方便測量等特點；
光源采用氦氖激光器，功率穩(wěn)定、波長高；
儀器配有生成表、查表以及計算等軟件，方便用戶使用。
規(guī)格與主要技術指標：
測量范圍：薄膜厚度范圍：1nm-300nm；折射率范圍：1-10
測量小值：≤1nm 入射光波長：632.8nm 光學中心高：80mm
允許樣品尺寸：φ10-φ140mm，厚度≤18mm
偏振器方位角范圍：0°- 180°讀取分辨率為0.05°
外形尺寸：680*390*320mm
測量膜厚和折射率重復性分別為：±0.5nm和±0.005
主機重量：25kg 入射角連續(xù)調(diào)節(jié)范圍：20°- 90°為0.05°
成套性：主機、電控系統(tǒng)、計算軟件
