德國(guó)PfeifferHLT 560氦質(zhì)譜檢漏儀用于PECVD鍍膜設(shè)備檢漏應(yīng)用實(shí)例(福建的太陽(yáng)能晶體硅電池制造公司)

一、鍍膜設(shè)備檢漏原因

  福建的太陽(yáng)能晶體硅電池制造公司,生產(chǎn)太陽(yáng)能單晶和多晶電池片.該公司在生產(chǎn)過(guò)程中應(yīng)用了PECVD沉積Si3N3減反層, 4-5天設(shè)備需要保養(yǎng)(清潔MASK,更換支架等等),由于是清潔設(shè)備內(nèi)部,所以存在內(nèi)部腔體密封性失效的可能.如果鍍膜設(shè)備密封性不好,鍍出來(lái)的產(chǎn)品膜厚會(huì)不均勻,產(chǎn)品四周膜參數(shù)會(huì)不合格.

    如果鍍膜設(shè)備保養(yǎng)完成后,能做檢漏,就可以避免很多不合格產(chǎn)品的產(chǎn)生,節(jié)約生產(chǎn)成本的目的.德國(guó)Pfeiffer的HLT 560氦質(zhì)譜檢漏儀具有操作簡(jiǎn)單,反應(yīng)靈敏的特點(diǎn),得到了客戶的青睞.

二、鍍膜設(shè)備檢漏操作

示意圖如下:

1),將氦質(zhì)譜檢漏儀HLT 560連接到泵組前的檢漏口上.

2),啟動(dòng)檢漏儀,檢漏儀開始抽取密閉腔體中的氣體,同時(shí)啟動(dòng)鍍膜設(shè)備的泵組.

3),在鍍膜機(jī)內(nèi)部的真空下降到程度的時(shí)候,如0.5 mbar以下的時(shí)候,拿氦氣噴在懷疑有漏的地方,或者檢查標(biāo)準(zhǔn)保養(yǎng)時(shí)動(dòng)到的部位.這時(shí)需要有人觀察檢漏儀的漏率指示值的變化.當(dāng)漏率上升或漏率值變化劇烈的時(shí)候,及時(shí)指出漏點(diǎn)所在位置,并做記號(hào).

4),可疑點(diǎn)都檢測(cè)完成后,關(guān)閉檢漏儀,停下鍍膜機(jī)的泵組并將鍍膜機(jī)打開,將檢測(cè)出的漏點(diǎn)進(jìn)行處理(如更換密封圈,清潔等等).處理完成后,再按照前敘步驟檢查一遍,直到漏點(diǎn)都被清除,檢漏過(guò)程完成.