世界原位薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)，又名薄膜應(yīng)力計(jì)或原位薄膜應(yīng)力儀！MOS美國(guó)技術(shù)！　　
　　采用激光非接觸的方法，用于薄膜表面應(yīng)力、曲率和翹曲測(cè)量，而且可對(duì)樣品整個(gè)表面的翹曲、應(yīng)力分布進(jìn)行二維實(shí)時(shí)成像分析；
　　
　　技術(shù)指標(biāo)：
　　1、掃描范圍：200mm（x，y）；
　　2、掃描速度：20mm／s（x，y）；
　　3、掃描分辨率：2μm；翹曲半徑分辨率100Km；
　　4、平均曲率分辨率：＜2e-5（1／m）1-sigma（50km　radius）1-sigma　
　　5、平均翹曲測(cè)量重復(fù)性：＜5e-6（radians）1-sigma；
　　6、平均曲率重復(fù)性：＜2×10-5　1／m（1sigma）
　　7、程序化控制掃描模式：選定區(qū)域、多點(diǎn)線性掃描、積掃描；
　　8、成像功能：樣品表面2D曲率成像，定量薄膜應(yīng)力成像分析；
　　9、測(cè)量功能：曲率、曲率半徑、應(yīng)力強(qiáng)度、應(yīng)力和翹曲等。
　　
　　該設(shè)備已經(jīng)廣泛被高等學(xué)府、半導(dǎo)體制和微電子造商等所采用。